Hotz床併用二段階口蓋形成法の中顔面成長に及ぼす影響に関する3次元的研究

2001 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 13672142
• Research Institution: Niigata University
• Principal Investigator: 石井 一裕 新潟大学, 大学院・医歯学総合研究科, 助手 (40262448)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 朝日籐 寿一 新潟大学, 歯学部・附属病院, 助手 (90313519) ; 寺田 員人 新潟大学, 歯学部・附属病院, 助教授 (00139312) ; 小野 和宏 新潟大学, 大学院・医歯学総合研究科, 助教授 (40224266)
• Keywords: 片側性唇顎口蓋裂 / Hotz床併用二段階口蓋形成法 / VIVID700 / 中顔面 / 成長

Research Abstract

平成13年度は片側性唇顎口蓋裂患者の健側、裂側中顔面部における矢状方向の成長の違いについて検討した。
(対象)
Hotz床併用二段階口蓋形成法で治療を受けた片側性唇顎口蓋裂患者11名(以下、二段階法群)、生後2歳以内に1期的に粘膜骨膜弁法により口蓋裂閉鎖された片側性唇顎口蓋裂患者(以下、一段階法群)11名、Clsas Iの咬合状態を有する非口蓋裂患者(以下、健常群)11名である。
(研究方法)
先ず非接触三次元計測装置(VIVID700)を用いて顔面部の軟組織を正面から測定した後、画像計測、画像処理を3次元画像解析ソフト(3D-Rugle)にて行った。計測点は健側(健常群では右側)で9点とそれに相応する裂側(健常群では左側)9点を用いた。健側、裂側(健常群では右側、左側)各相応点の矢状方向の前後差を各群で検討した後、年齢、性別により3群のペアをつくりその差を3群間で比較検討した。
(結果)
口蓋裂両群とも健側と裂側とに有意差が認められる計測点はなかった。また、健常群においても左右差は認められなかった。さらに、これらの差に関して3群間で違いはみられなかった。
(結論)
一般的に片側性唇顎口蓋裂患者では歯槽骨レベルで健側と裂側とに前後的成長の違いが明らかに認められるにも関わらず、今回中顔面部ではその違いが認められなかった。また、それらは術式による影響を受けにくいことが示唆された。
平成14年度は、二段階法群と一段階法群で、健側、裂側それぞれにおける中顔面部矢状方向成長の違いについて比較検討する予定である。