2001 Fiscal Year Annual Research Report
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13780389
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Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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| Research Institution | Saga University |
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Principal Investigator |
大津 康徳 佐賀大学, 理工学部, 講師 (50233169)
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| Keywords | 電子ビーム発生器 / フィラメント / メッシュ電極 / 微粒子 / ラングミュアプローブ / レーザ光散乱法 |
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| Research Abstract |
本研究では、負バイアスしたメッシュ電極裏側から電子ビームを注入することにより、電極近傍の電位構造を変化させ、電極前面の浮遊微粒子の空間分布を制御する事を目的とした。本年度では、(1)電子ビーム発生器の構築とその基礎特性、(2)粒径の揃った微粒子のプラズマへの安定供給、(3)メッシュ電極前面の電位構造を明らかにした。
(1)電子ビーム発生器の構築とその基礎特性
電子ビーム発生器は、内径80mm、外径100mm、長さ50mmの円筒状アルミ容器に、フィラメントを設置した構造からなる。容器開口部には、メッシュ電極(タングステン製、100mesh/inch)を配置した。電子ビーム注入用のフィラメントの配置法として、数巻のスパイラル状のフィラメントを数個軸対称に配置した場合と直線状のフィラメントを数本並列に配置した場合の2種類を用いた。電子ビーム発生の観点から、直線状のフィラメントを用いた場合が効率よく電子ビームの発生が可能であることがわかった。
(2)微粒子のプラズマへの安定供給
高周波放電中に、粒径が揃ったアクリル微粒子の安定供給実験を行った。粒径として1.5μ〜10μmのものを導入した場合、1.5μmの微粒子がもっとも安定に供給でき、レーザ光散乱法による微粒子の浮遊確認が容易であった。
(3)メッシュ電極前面の電位構造
電子ビームを注入しない場合のメッシュ電極前面の電位構造計測の基礎実験を行った。電位の計測には、通常のラングミュアプローブを用いて行った。浮動電位の半径方向分布から、メッシュ近傍でイオンシースに起因する負の電位構造が形成されることがわかった。
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[Publications] Y.Ohtsu: "Characteristics of charged particles in narrow gap capacitively coupled RF plasma"Proceedings of 25th International Conference on Phenomena in Ionized Gases. 3. 207-208 (2001)
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[Publications] Y.Ohtsu: "Behaviors of charged particles in narrow gap Capacitively Coupled RF Discharge"Bulletin of the American Physical Society 54th Annual Gaseous Electronics Conference. 46・6. 35 (2001)
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[Publications] Y.Ohtsu: "Temporal evolution of sputtered carbon particles in radio frequency plasma"Proceedings of Fine Particle Plasmas : Basis and Applications Second Workshop on Fine Particle Plasmas. 15 (2001)
