次世代電荷デバイス用ニオブ粉末の新しい製造プロセス

2002 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 14655280
• Research Institution: The University of Tokyo
• Principal Investigator: 前田 正史 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (70143386)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 岡部 徹 東京大学, 生産技術研究所, 助教授 (00280884) ; 今葷倍 正名 CBMMアジア(株), 技術開発部長
• Keywords: ニオブ / 還元プロセス / 金属熱還元 / 金属粉末 / レアメタル / 溶融塩 / コンデンサ / 電子材料

Research Abstract

本研究では、従来の金属熱還元反応において電子とイオンの動きを制御する新しい手法を導入しこれを発展させ、反応媒体塩をうまく利用しニオブを金属熱還元反応により直接還元して微細な高純度ニオブ粉末を効率良く製造する新しいプロセスを確立する探査的研究を行った。
本研究初年度は、約800℃におけるニオブの還元反応おける反応媒体塩の役割について解析を行い、ニオブ粉末の生成反応について詳細に検討した。さらに、還元反応のメカニズムと反応生成物の形態との関連を解析することに重点を置いた研究も行った。塩化カルシウムなどの金属の溶解度が大きく、条件によっては電子伝導性を有する溶融塩を反応媒体とした還元反応を行い、粉末の形態の差異を比較検討した。効率のよい還元実験を行うために反応容器を新たに設計し、工業プロセスへの適応を視野にいれた小型反応セルを自作して還元実験を行った結果、粒径が1μ程度の均一で高純度のニオブ粉末が得られた。