2002 Fiscal Year Annual Research Report
分裂酵母のDNA修復と損傷乗り越え複製制御機構の分子遺伝学的解析
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14704061
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
横井 雅幸 大阪大学, 生命機能研究科, 助手 (00322701)
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| Keywords | 分裂酵母 / 損傷乗り越え複製 / DNAポリメラーゼ / ヌクレオチド除去修復 / 酸化的損傷 / 自然突然変異 / 紫外線 |
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| Research Abstract |
本研究課題の平成14年度の研究実績の概要は以下のとおりである。
(1)分裂酵母のDNA修復因子(ヌクレオチド除去修復、紫外線損傷除去修腹関連因子)および損傷乗り越え複製活性を持つ複数のDNAポリメラーゼ(Eso1p、DinBp、Rev1p、Rev3p)に注目し、各遺伝子を破壊した株の樹立を目的とした当初の予定をほぼ達成した。
(2)作成した遺伝子破壊株の表現形解析を目的とし、現在までに増殖能や複数の環境変異原に対する感受性などの基礎的データを収集した。その結果、除去修復関連因子および各損傷乗り越え複製DNAポリメラーゼの欠損は通常の生育に影響を与えなかった。特筆すべきは、各損傷乗り越え複製DNAポリメラーゼが増殖時の染色体複製における必須因子ではないことである。しかし、自然突然変異の発生率を野生型と比較すると、Δeso1、ΔdinB各遺伝子破壊株で、それぞれ突然変異頻度の上昇と低下が観察された。このことは、Eso1pとDinBp両者は酸化的損傷に代表される細胞内代謝反応によるDNA損傷の乗り越え反応に関るが、Eso1pが複製鋳型鎖の損傷塩基に対する正しいヌクレオチドの取り込み、一方DinBpが誤ったヌクレオチドの取り込みに寄与することを強く示唆している。興味深いことに、酸化的損傷を誘発する過酸化水素による感受性には両破壊株間で顕著な違いが認められた。このことは、両ポリメラーゼの特質を見極めるうえで重要な知見であると考えている。さらに、紫外線損傷に対する感受性を調べたところ、差はあるものの各DNAポリメラーゼ破壊株で感受性を示し、各々の遺伝子でその表現系は相補された。二重、三重破壊株を用いた実験により、Eso1pとRev3pは、主にそれぞれが紫外線によって生じる主要な損傷であるシクロブタン型ピリミジン二量体と(6-4)光産物に対する乗り越え複製に関わることを示唆する結果を得た。
現在、上記の研究をさらに発展させると同時に、異なる化学変異原に対する感受性と、それに伴う突然変異発生率の測定を行っている。
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Research Products
(1 results)
