2004 Fiscal Year Annual Research Report
光量子干渉効果を利用した極限超解像光リソグラフィー
| Project/Area Number |
15560036
|
|---|
| Research Institution | Tokyo Polytechnic University |
|---|
Principal Investigator |
渋谷 眞人 東京工芸大学, 工学部, 教授 (10339799)
|
|---|
| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
江崎 ひろみ 東京工芸大学, 工学部, 助教授 (90213545)
大木 裕史 (株)ニコン, コアテクノロジーセンター画像技術開発部, ゼネラルマネジャー(フェロー)
尾松 孝茂 千葉大学, 工学部, 助教授 (30241938)
|
|---|
| Keywords | 超解像 / 量子光学 / 光リソグラフィー |
|---|
| Research Abstract |
2光子吸収レジストにエンタングルドフォトンを照射して超解像を得る方法では、照度を上げた場合に所望の理想的なエンタングルドフォトン以外の光子状態が発生して、像コントラストを下げてしまう問題があることを明確にした。我々は、実用的な照度が得られるようにコヒーレント光で超解像ができる方法を考案した。Nonコヒーレント光を偏光ビームスプリッターに入射させ、二つの直交する直線偏光(P偏光とS偏光)に分離する。この二つのビームを偏光選択性のある2光子吸収レジスト上に照射させることで、超解像を得るというものである。2004年12月に学術雑誌Nonliner Optics and Quntum Opticsに掲載された。
2光束干渉による超解像は実用的ではなく、物体と像を共役とした光学配置での検討をおこない、超解像が困難であることが分かった。そこで、実用的な配置について考察を行っており、物体と像という共役関係ではなく、瞳と像というフーリエ変換の関係の配置の可能性について模索している。また、我々の偏光分離と似た手法として、二つのパルス光を時間をずらして照射するという提案があるが、これも実用的な超解像を得る配置は必ずしも容易ではない、偏光以外の手法を含めて実規的な解の模索を継続していく。
上記の反応を起こす物質としてCuCl結晶が知られているが、レジストとして適当な材料がないか、レーザー照射による実験検討を行っている。KPFLR-Y200N(関西ペイント)を用いて2光子吸収による超解像パターンニングを行ったが、顕著な2光子吸収は見られなかった。
|
Research Products
(6 results)
