2003 Fiscal Year Annual Research Report
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15710096
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| Research Institution | Tokyo University of Science |
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Principal Investigator |
谷口 淳 東京理科大学, 基礎工学部電子応用工学科, 講師 (40318225)
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| Keywords | ナノインプリント / SOG / 電子ビーム描画 / 石英 / ダイヤモンド |
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| Research Abstract |
本研究では,ナノメートルオーダーの三次元(従来の二次元+深さ方向の制御)構造を安価に早く複製する技術を開発することを目的とする.この三次元ナノパターン転写技術にはナノインプリントリソグラフィ(Nano Imprint Lithography : NIL)技術を用いる.このプロセスは,ナノメートルオーダーのパターンが描かれているモールド(型)を樹脂に押し付けてレプリカを得るものである.従来までは,二次元的のモールドしか作製されていなかったが,本研究室において,三次元モールドの作製に成功した.本研究の目的として,さらに精度の高い三次元ナノモールドの作製を行い,そのモールドを用いたパターン転写特性を評価することを目的とする.三次元モールドを作製するために,レジストとしてSpin-On-Glass(SOG)を用い,電子ビームの加速電圧を変化させて電子ビーム直接描画により三次元露光を行っている.これによって精度の高い深さ方向の制御ができる。本年度の成果としては、ダイヤモンドと石英基板上に三次元のパターンを形成することができた。
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