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2017 Fiscal Year Annual Research Report

Development of Materials Informatics to Predict Polarization at Oxide Hetero-Interfaces

Research Project

Project/Area Number 15H03979
Research InstitutionWaseda University

Principal Investigator

渡邉 孝信  早稲田大学, 理工学術院, 教授 (00367153)

Project Period (FY) 2015-04-01 – 2018-03-31
Keywords電子・電気材料 / 計算物理 / 表面・界面物性 / ナノ材料
Outline of Annual Research Achievements

階層型ニューラルネットワーク(NN)による多元酸化物同士の界面分極の学習と予測に取り組んだ。Al、Mg、Sr、Tiの4種類の金属元素を混合した様々な組成のhigh-k酸化物とSiO2界面のダイポールモーメントを分子動力学計算で求め、これを学習用もしくは検証用データとして用いた。単元系、二元系、三元系high-k酸化物の界面ダイポールのデータを学習したNNで、未学習の四元系酸化物の界面ダイポールを予測したところ、学習データに対する相関係数0.86に対し、未学習データに対しても0.72と高い相関係数が得られ、未学習のデータを外挿的に予測する能力を示唆する結果が得られた。組成比のみで良好な学習能力が示されたことから、多元high-k酸化物のダイポールモーメントも単純な法則で予測可能であると考えられる。調査の結果、多元high-k酸化物に含まれる金属カチオンの平均価数とダイポールモーメントとの間に強い相関が見いだされ、従来提案されている酸素原子密度差よりもさらに優れた記述子となることが判明した。
また、酸窒化物にも対象範囲を拡げて分子動力学シミュレーションを実施したところ、AlON/SiO2界面ではAlONのN濃度が増加するにつれて界面ダイポールの向きが逆転することが判明した。AlONのN濃度が少ない場合はアルミナ側のOイオンがSiO2側に移動することで界面ダイポールが形成されるが、N濃度が増えるにつれてAlイオンがSiO2側に優先的に移動するようになり、界面ダイポールの向きが逆転することが判明した。AlONのN濃度を増やすとAlSiON相のエネルギーが低下することも判明し、アルミナ相とシリカ相の混合促進が逆向きのダイポール形成につながっていることが判明した。酸窒化物においても、Oイオン同士の近接反発力と化合物生成エネルギーのバランスで分極の向きと大きさを説明できることが判明した。

Research Progress Status

29年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

29年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (11 results)

All 2018 2017 Other

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (9 results) (of which Int'l Joint Research: 9 results,  Invited: 2 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Molecular Dynamics of Dipole Layer Formation at High-k/SiO2Interface2017

    • Author(s)
      Watanabe Takanobu
    • Journal Title

      ECS Transactions

      Volume: 80 Pages: 313~325

    • DOI

      10.1149/08001.0313ecst

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 分子動力学計算による異種酸化物界面のダイポール形成機構に関する考察2018

    • Author(s)
      金丸 翔太, 中川 宣拓, 高橋 憶人, 渡邉 孝信
    • Organizer
      第65回応用物理学会春季学術講演会
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] alency of cation rather than Oxygen Density may govern the Dipole Moment at high-k/SiO2 interfaces2018

    • Author(s)
      Marc Perea, Okuto Takahashi, Koki Nakane, Nobuhiro Nagasawa, Takanobu Watanabe
    • Organizer
      第65回応用物理学会春季学術講演会
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Machine Learning of Interfacial Dipole Moments Between Multicomponent Oxide Films by Neural Network Model2017

    • Author(s)
      Koki Nakane, Motohiro Tomita, Takanobu Watanabe
    • Organizer
      2017 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY(IWDTF 2017)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Computational Experiment on Dipole Formation at High-k/SiO2 Interface Using Virtual Oxide Models2017

    • Author(s)
      Nobuhiro Nakagawa, Okuto Takahashi, Takanobu Watanabe
    • Organizer
      2017 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY(IWDTF 2017)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Investigation of Dipole Formation at AlOxNy/SiO2 interface by MD simulation2017

    • Author(s)
      Okuto Takahashi, Nobuhiro Nakagawa, Motohiro Tomita, Takanobu Watanabe
    • Organizer
      2017 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES: SCIENCE AND TECHNOLOGY(IWDTF 2017)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Molecular Dynamics of Dipole Layer Formation at High-k/SiO2 Interface2017

    • Author(s)
      Takanobu Watanabe
    • Organizer
      232nd ECS MEETING
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] Formation Mechanisms of Gate Oxide Films2017

    • Author(s)
      Takanobu Watanabe
    • Organizer
      2017 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2017)
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] ニューラルネットワークを用いた多元酸化物界面のダイポールモーメントの予測2017

    • Author(s)
      中根 滉稀, 富田基裕, 渡邉 孝信
    • Organizer
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 分子動力学計算によるAlOxNy/SiO2界面におけるダイポール形成の駆動力の調査2017

    • Author(s)
      高橋 憶人, , 中川 宣託, 富田 基裕, 渡邉 孝信
    • Organizer
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • Int'l Joint Research
  • [Remarks] High-k絶縁膜シミュレーション

    • URL

      https://www.watanabe-lab.jp/dipole.html

URL: 

Published: 2018-12-17  

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