2006 Fiscal Year Annual Research Report
シンクロトロン光励起プロセスによる電子材料のナノ構造加工に関する基盤技術の開発
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16560012
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| Research Institution | Saga University |
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Principal Investigator |
西尾 光弘 佐賀大学, 理工学部, 教授 (60109220)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
小川 博司 シンクロトン応用研究センター, 教授 (10039290)
田中 徹 シンクロトン応用研究センター, 助手 (20325591)
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| Keywords | シンクロトロン光励起 / 電子材料 / ナノ構造加工 |
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| Research Abstract |
佐賀県立九州シンクロトロン光研究センターに波長選択(分光器による10-50eVの選択、フィルタによる選択)、差動排気装置を用いた反応ガス導入、加工状態その場測定、清浄な雰囲気(簡易クリーンルーム)などが実現できる材料加工専用のビームライン(材料加工・プロセス開発ビームライン)の整備を引く続き行った。更に、佐賀県有シンクロトロン光研究センターの光源運転に伴って、ビームラインの立ち上げおよびその性能試験を実施し、材料加工専用のビームラインの整備に関する初期の目的を達成した。また、佐賀大学での予備実験および佐賀県立九州シンクロトロン光研究センターでの実験を進めた。シンクロトロン光照射に関してはテフロン、ZnTeのエッチングを実証し、それら実験データに基づき微細構造作製の有効性の検討、エッチングメカニズムの検討などを実施した。それらの成果によりシンクロトロン光照射を用いた材料加工に関する大きな指針を得た。また、シンクロトロン光実験のための佐賀大学で実施した予備実験では、ZnTeやZnMgTeなどの化合物、混晶半導体の有機金属気相成長、不純物ドーピング、成長後のアニーリング特性などについて結晶の電気的性質、フォトルミネッセンス特性などの物性と作製または処理条件の対応付けなどの詳細な実験データを収集した。その結果、物性の制御性や高品質化に適した新しい材料加工技術を提案することができた。更に、これらの技術を研究室で開発中の光デバイスに適用し、デバイス化にとっての有効性を実証した。
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Research Products
(6 results)
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[Journal Article] Design of Beamline BL9 at Saga Light Source2007
Author(s)
Yooru Tanaka, Hiroshi Ogawa, Masao Kamada, Mitsuhiro Nishio, Masataka Masuda, Qixin Guo, Kazuki Hayashida, Yuzi Kondo, Teruaki Motooka, Daisuke Yoshimura, Hiroyuki Setoyama, Toshihiro Okajima
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Journal Title
AIP series of conference proceedings 879
Pages: 559
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