2005 Fiscal Year Annual Research Report
電子ビーム直描に最適化したメモリ融合集積回路による低コスト低消費電力設計技術
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16560317
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| Research Institution | Ritsumeikan University |
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Principal Investigator |
藤野 毅 立命館大学, 理工学部, 教授 (60367993)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
吉川 雅弥 立命館大学, 理工学部, 講師 (50373098)
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| Keywords | 電子ビーム直接描画 / プログラマブルロジック / ルックアップテーブル / スタンダードセル / キャラクタプロジェクション |
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| Research Abstract |
システムLSIの原版となるフォトマスクは微細加工技術の発展と共に高額化しており,最先端の90nmプロセスでは,新しいマスクを使ったLSIを製造するために1億円以上のマスク経費が必要となっている.
フォトマスクを必要としないパターン形成技術として,電子ビームウエハ直接描画(EB直描)があるが,ウエハの処理速度が低く,従来は極少量生産LSIにしか使用されていなかった.
EB直描のウエハ処理速度を改善する方法として,部分一括描画手法が提案されているが,メモリなどの繰り返しパターンの多いLSIでないと高速化が見込めない.本研究では,この部分一括描画手法に最適化したLSI設計手法を考案し,EB直描を使った小〜中規模生産LSIの低コスト化の実現を目指している.
また,高速なEB直描を実現するためには,メモリのような規則的なパターンが配置された論理ブロックを用いて演算処理をすることが望ましい.したがってメモリ回路の高性能化研究も必要である.
本年度は,主として下記4つのテーマに対して研究および学会発表を行った.
(1)高速電子ビーム直描に最適化したスタンダードセルライブラリの研究
(2)メディア処理の高性能化に適した0.35μCMOSルールの大規模スタティックメモリの研究
(3)高精度電子ビーム直描のための近接効果補正技術の研究
(4)鍵情報によって回路構成を可変にする共通鍵暗号化回路の研究
(1)に関しては2005年および2006年春に国際学会で1件発表,(2)(3)(4)に関しては2004年秋,2005年春に国内・国際学会で各1件の発表を実施.
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Research Products
(6 results)
