2018 Fiscal Year Annual Research Report
Develpment of a technique to transfer nanodot in lattice with homo- hetero- and nanogap
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16H03885
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
中田 芳樹 大阪大学, レーザー科学研究所, 准教授 (70291523)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
坪井 泰之 大阪市立大学, 大学院理学研究科, 教授 (00283698)
奈良崎 愛子 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (40357687)
東海林 竜也 大阪市立大学, 大学院理学研究科, 講師 (90701699)
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| Project Period (FY) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| Keywords | レーザー誘起ドット転写 / 金属ナノドット / 周期構造 / ナノプリンター / 超短パルスレーザー / ビーム整形 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
①ポインティング安定化装置改良：アイリスによる光源サイズ制限及び光量最適化を行った。
②干渉パターンLIDT装置の振動防止：予備実験の結果、真空ポンプによって加工部が振動している事が判明した。そこで、軟性ポリマーホースを用いた長尺の緩衝部を設け、問題を解決した。
③近赤外超短パルスレーザー4ビーム干渉パターン形成装置の構成：ショットエネルギーの安定性を増すため、基本波を用いた装置を再構成した。レンズ及びミラーを全て近赤外対応にし、さらに近赤外4ビーム回折DOE及び像転送光学系からなる干渉パターン形成装置を構成し、真空排気系（P<3kPa）を備えたLIDT加工部に導入した。
④干渉パターンLIDT実験：干渉パターンは正方格子、周期は3.6μmである。材料基板及びアクセプタ基板は合成石英基板（λ/4）にマグネトロンスパッタリングで堆積したAuまたはPt薄膜（膜厚：20～100nm）を用いた。
⑤実験結果：Au及びPt薄膜を材料基板に用い、干渉パターンの格子通りに配列したナノ微粒子の堆積に成功した。Au薄膜の場合の最小サイズは500nm以下であり、サブミクロン微粒子の堆積に成功した。比較的高いフルエンスの領域では2段、3段に積み上がったナノドットが見られ、単一スポットに複数のナノドットが形成される場合がある事が分かった。一部は1段目の近隣に堆積しており、例としてギャップ長45nmのナノドットペアが形成された。また、複数回LIDTによる近接ナノドット形成の初期的結果を得た。
⑥前年度ポインティング精密制御装置を導入したシングルビームLIDT装置を利用し、金属ナノドット形成のための転写挙動を検討し、ガラス基板上への金ナノドットのオンデマンド形成を実現した。
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| Research Progress Status |
平成30年度が最終年度であるため、記入しない。
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| Strategy for Future Research Activity |
平成30年度が最終年度であるため、記入しない。
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Research Products
(22 results)
