2018 Fiscal Year Annual Research Report
Development of esthetic clasp with polyetheretherketone(PEEK)
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16K11597
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| Research Institution | The University of Tokushima |
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Principal Investigator |
石田 雄一 徳島大学, 病院, 講師 (90403708)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
後藤 崇晴 徳島大学, 大学院医歯薬学研究部(歯学域), 助教 (00581381)
内藤 禎人 徳島大学, 大学院医歯薬学研究部(歯学域), 徳島大学専門研究員 (20509773) [Withdrawn]
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| Project Period (FY) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| Keywords | PEEKクラスプ / CAD/CAM / 表面粗さ / 研磨 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
PEEKクラスプの製作過程において、CAD/CAMによって削り出されたPEEK樹脂を、ラボサイドやチェアーサイドで切削によって調整することが想定される。そのため、調整後の研磨方法を確立させておくことは非常に重要である。
実験では、PEEKディスクを＃800の耐水ペーパーにて荒研磨を行った後、以下の7通りの方法で最終研磨を行った（NT:＃800耐水ペーパー、C:シリコンポイント、CS：シリコンポイント＆シルキーシャイン（山八）を用いたポリッシング、CSA：シリコンポイント＆シルキーシャインを用いたポリッシング＆アクアブルーペースト（クエスト）を用いたポリッシング、CA:シリコンポイント＆アクアブルーペーストを用いたポリッシング、S:シルキーシャインを用いたポリッシング、A:アクアブルーペーストを用いたポリッシング）。研磨後は、ハイブリッドレーザーマイクロスコープ（Optelics Hybrid）を用いて、研磨面の表面粗さを定性的、定量的に測定した。
最も表面が粗かった群はNTであり、NT群とC群では他の群と比較して有意に表面が粗かった。最もなだらかに研磨ができていたのはA群であり、面荒さ（Sa：平均0.01マイクロメートル）、線荒さ（Ra:平均0.09マイクとメートル）ともに最小値となった。また、同様の結果をレーザーマイクロスコープを用いた研磨面の定性的観察によっても確認することができた。
PEEKクラスプの試作品をいくつか製作したが、望ましい支台歯との適合を得ることができなかった。スキャニングした支台歯に誤差が生じている可能性もあったため、石膏やメタルの支台歯でも試したが、適合は改善されなかった。元々クラウンを製作するためのシステムでクラスプを製作しており、なんらかの補正がかかっている可能性も考えられたが、企業機密事項であり原因を確定することはできなかった。
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