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2006 Fiscal Year Annual Research Report

超高速全光スイッチの低エネルギー動作化と全光信号処理デバイスへの展開

Research Project

Project/Area Number 17068013
Research InstitutionNational Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Principal Investigator

石川 浩  独立行政法人産業技術総合研究所, 超高速光信号処理デバイス研究ラボ, 研究ラボ長 (50392585)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 物集 照夫  独立行政法人産業技術総合研究所, 超高速光信号処理デバイス研究ラボ, 主任研究員 (20399497)
永瀬 成範  独立行政法人産業技術総合研究所, 超高速光信号処理デバイス研究ラボ, 研究員 (80399500)
河島 整  独立行政法人産業技術総合研究所, 超高速光信号処理デバイス研究ラボ, 主任研究員 (90356840)
杉本 喜正  独立行政法人産業技術総合研究所, 超高速光信号処理デバイス研究ラボ, 招聘研究員 (60415784)
池田 直樹  独立行政法人産業技術総合研究所, 超高速光信号処理デバイス研究ラボ, 特別研究員 (10415771)
Keywordsサブバンド間遷移スイッチ / InGaAs / AlAs / AlAsSb / 光閉じ込め / 周期構造
Research Abstract

InGaAs/AlAs/AlAsSb結合量子井戸を用いたサブバンド間遷移スイッチについて、低エネルギー動作化のために、2光子吸収の低減の可能性、4元クラッド層に光閉じ込めの強化、一層の低エネルギー動作化のための、周期構造と組み合わせた素子構造の検討を行った。夫々の研究項目の結果は以下の通りである。
1)2光子吸収
量子井戸層の組成が2光子吸収に与える影響を、実験的に検討を行った。その結果、2光子吸収はバンドギャップが2光子のエネルギーよりも小さくなっている場合、井戸の組成が直接的には影響しないことが明らかとなった。低エネルギー動作化には、短素子長化して、同時にドーピング濃度を上げて吸収係数を高くする手法が最も有効であることを確認した。
2)4元クラッド層の検討
クラッド層の屈折率を下げ、光閉じ込めを強化するため、従来のInAlAs/InPの上下のクラッド層に替えて4元のAlGaAsSbの上下クラッド層を検討した。導波路の非線形を表すFigure of Meritが約1.5倍にできることを解析で示し、4元クラッド層の成長条件を詰めて、素子構造を製作した。次年度から素子特性の評価を行う。
3)周期構造との組み合わせ
DFBレーザ的な周期構造で軸方向に光閉じ込め強度の強い部分を作り、低エネルギー動作化する方法について、基礎的な解析をおこなった。別途見つかっている、InGaAs系サブバンド間遷移スイッチの全光位相変調効果と組み合わせることで、低エネルギー動作素子に繋がる可能性を示した。また、周期構造の製作についても基礎的プロセスの開発を行った。

  • Research Products

    (5 results)

All 2007 2006

All Journal Article (4 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Journal Article] Ultrafast all-optical refractive index modulation in intersubband transition switch using InGaAs/AlAs/AlAsSb quantum well2007

    • Author(s)
      H.Ishikawa et al.
    • Journal Title

      Japanease Journal of Applied Physics vol.46, no. 7

      Pages: L157-L160

  • [Journal Article] Absorption dynamics in all-optical switch based on intersubband trnsition in InGaAs-AlAs-AlAsSb coupled quantum wells2007

    • Author(s)
      T.Simoyama et al.
    • Journal Title

      IEEE Photonics Technology Letters vol. 19 no. 8

      Pages: 604-606

  • [Journal Article] Strain compensation for InGaAs-AlAs-AlAsSb coupled double quantum wells by controlling the barrier-layer composition2007

    • Author(s)
      M.Nagase et al.
    • Journal Title

      Journal of Crystal Growth vol. 301-302

      Pages: 240-243

  • [Journal Article] Photoreflectance study of InGaAs/AlAsSb quantum wells grown by molecular beam epitaxy2007

    • Author(s)
      T.Mozume et al.
    • Journal Title

      Journal of Crystal Growth vol. 301-302

      Pages: 177-180

  • [Patent(Industrial Property Rights)] 結合量子井戸構造2006

    • Inventor(s)
      永瀬成範
    • Industrial Property Rights Holder
      産業技術総合研究所
    • Industrial Property Number
      特許、特願2006-222736
    • Filing Date
      2006-08-07

URL: 

Published: 2008-05-08   Modified: 2016-04-21  

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