• Search Research Projects
  • Search Researchers
  • How to Use
  1. Back to project page

2006 Fiscal Year Annual Research Report

超高耐放射線・気体絶縁ゲート電界効果トランジスタの研究

Research Project

Project/Area Number 17560309
Research InstitutionHIROSHIMA UNIVERSITY

Principal Investigator

角南 英夫  広島大学, ナノデバイス・システム研究センター, 教授 (10311804)

Keywords電界効果トランジスタ / 絶縁ゲート / 気体絶縁 / 耐放射線 / 高耐圧 / シリコン窒化膜 / 熱リン酸
Research Abstract

本研究の目的は、従来のMOS(金属-酸化膜-半導体)トランジスタの酸化膜を気体に置き換え、宇宙線や放射線劣化の最大要因である酸化膜を不要とすることによって、抜本的な放射線耐性向上を目指すものである。副次的な効果として微細トランジスタのゲート耐圧向上、信頼性向上が期待できる。SF_6などの気体封入により絶縁耐圧を向上する技術は、古くから電力遮断器などで応用されているが、世界的にも集積回路のトランジスタに適用した例はない。
平成17年度はトランジスタ構造の材料を決定するため、除去膜の材料と最適なエッチング液を選択した。当所第一候補としていたシリコン窒化膜(Si_3N_4)と熱リン酸液の組み合わせは熱リン酸がシリコン基板表面をエッチングすることから不適当であることが判明し、第二候補のシリコン(SiO_2)酸化膜と緩衝弗酸の組み合わせを選んだ。
平成18年度はこれらの開発した技術により、ゲート絶縁膜部分がガスで満たされている気体絶縁ゲート電界効果トランジスタ(metal-gas-semiconductor field-effect-transistor:MGS-FET)を世界で初めて実現し、正常なトランジスタ動作を行うことを確認した。耐放射線特性が推定できるホットキャリヤ耐性を評価中である。

  • Research Products

    (5 results)

All 2007 2006

All Journal Article (4 results) Book (1 results)

  • [Journal Article] Anomalous Whisker Generation in Ni-Silicided Source and Drain for Three-Dimensional Beam-Channel MOS Transistor on SOI Substrate2007

    • Author(s)
      Shunpei Matsumura, Atsushi Sugimura, Kiyoshi Okuyama, Hideo Sunami
    • Journal Title

      Proc. ADMETA (in press)

  • [Journal Article] Subthreshold-Characteristics Control of Narrow- channel SOI nMOS transistor Utilized Additional Side Gate Electrodes2007

    • Author(s)
      K.Okuyama, K.Yoshikawa, H.Sunami
    • Journal Title

      Jpn. J. Appl. Phys. 46(in press)

  • [Journal Article] High-aspect-ratio structure formation techniques for three-dimensional metal-oxide-semiconductor transistors2006

    • Author(s)
      H.Sunami, S.Matsumura, K.Yoshikawa, K.Okuyama
    • Journal Title

      Microelectronic Engineering 83

      Pages: 1740-1744

  • [Journal Article] Fabrication of Spin-Coated Optical Waveguides for Optically Interconnected LSI and Influence of Fabrication Process on Underlying Metal-Oxide-Semiconductor Capacitors2006

    • Author(s)
      T.Tabei, K.Maeda, S.Yokoyama, H.Sunami
    • Journal Title

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

      Pages: 3498-3503

  • [Book] VSLI工学:製造プロセス編2006

    • Author(s)
      角南英夫
    • Total Pages
      210
    • Publisher
      電子情報通信学会

URL: 

Published: 2008-05-08   Modified: 2016-04-21  

Information User Guide FAQ News Terms of Use Attribution of KAKENHI

Powered by NII kakenhi