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2018 Fiscal Year Annual Research Report

高分子薄膜における垂直配向界面の創成と分子配置基盤技術

Research Project

Project/Area Number 17H03113
Research InstitutionTokyo Institute of Technology

Principal Investigator

早川 晃鏡  東京工業大学, 物質理工学院, 教授 (60357803)

Project Period (FY) 2017-04-01 – 2020-03-31
Keywords垂直配向 / ブロック共重合体 / ミクロ相分離ドメイン / 表面改質膜 / 表面自由エネルギー / 高分子付加反応 / ランダム共重合体
Outline of Annual Research Achievements

高分子ミクロ相分離薄膜におけるナノ構造制御に関する研究の一環として,近年重要な課題となっている垂直配向制御に着目し,未だ解明されていない高分子の 一次構造,形態,基板界面,および配向性などとの相関について明らかにし,さらにその垂直配向界面を利用した高度な分子配置技術とサブナノ界面薄膜材料に 展開するための基盤研究である.
前年度に得られた知見を基に,本年度30年度はミクロ相分離ドメインの垂直配向制御における信頼性を高め,さらに広く一般性を追求することを目的に,新たなブロック共重合体(PS-b-PGMA)を用い,これらの概念の検証と垂直配向機構を明らかにすることを目的とした.ポリスチレン(PS)とポリメタクリル酸グリシジル(PGMA)から構成されるPS-b-PGMAはリビングアニオン重合法に従い合成した.続いて,従来に比べてブロック成分のより自由度の高い表面自由エネルギー値の調整を可能とするために,PGMAのグリシジル基と各種チオール化合物の高分子反応による側鎖官能基の導入を図った.アルキル基,フッ素化アルキル基をそれぞれ側鎖に有する各ホモポリマー(PHEtMA,PHFMA)の接触角測定から表面自由エネルギー値の算出を実施した後,各種ブロック共重合体の合成を行った.得られたブロック共重合体の薄膜に対し,前年度までの知見を基に表面改質剤となるランダム共重合体の調整と熱アニーリング温度の最適化を行った.その結果,PSよりも表面自由エネルギー値の低いフッ素化アルキル基を有するブロック共重合体(PS-b-PHFMA)のみでミクロ相分離ドメインの垂直配向が達成され,熱アニーリングの過程で起こるPHFMA成分の表面偏析がミクロ相分離ドメインの垂直配向に有効に働いていることが示唆された.

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

本年度30年度はミクロ相分離ドメインの垂直配向制御における信頼性を高め,さらに広く一般性を追求することを目的に,新たなブロック共重合体(PS-b-PGMA)を用い,これらの概念の検証と垂直配向機構を明らかにすることを目的とした.
(1)ポリスチレン(PS)とポリメタクリル酸グリシジル(PGMA)から構成されるPS-b-PGMAはリビングアニオン重合法に従い合成した.異なる分子量および組成比が制御された5種類のPS-b-PGMAを準備することに成功した.
(2)ブロック成分のより自由度の高い表面自由エネルギー値の調整を図るために,PGMAのグリシジル基と各種チオール化合物を用いる高分子反応に着目し,アルキル基およびフッ素化アルキル基をそれぞれ側鎖に有する各ホモポリマー(PHEtMA,PHFMA)とブロック共重合体(PS-b-PHEtMA,PS-b-PHFMA)の合成を行い目的物を得た.
(3)得られた各ホモポリマーの接触角測定から表面自由エネルギー値を算出した.
(4)表面改質剤にはPS,ポリメタクリル酸メチル(PMMA)およびPGMAで構成されたランダム共重合体を用い,ブロック共重合体薄膜のミクロ相分離ドメインの垂直配向に関する実験を実施した.熱アニーリング温度の最適化を行いながら,原子間力顕微鏡によるミクロ相分離ドメインの形成と垂直配向観察を行った.その結果,PSよりも表面自由エネルギー値の低いフッ素化アルキル基を有するブロック共重合体(PS-b-PHFMA)のみでミクロ相分離ドメインの垂直配向が進行することがわかった.熱アニーリングの過程で起こるPHFMA成分の表面偏析がミクロ相分離ドメインの垂直配向に有効に働いていることが示唆される興味深い結果を得た.
以上の結果から,本年度の進捗状況は一部計画以上に進展する内容も含んでおり,おおむね順調であると考える.

Strategy for Future Research Activity

次年度31年度は,前年度2年間で得られた知見を基に,ミクロ相分離ドメインの垂直配向機構を明らかにすることに注力する.ブロック共重合体および表面改質剤に用いるランダム共重合体の化学構造および表面自由エネルギー値,薄膜における膜厚がドメインの垂直配向に及ぼす影響について,電子顕微鏡観察による断面構造解析と原子間力顕微鏡による薄膜表面構造解析により明らかにする.
一方で,ドメインの垂直配向を利用するサブナノ界面薄膜材料の開発を実施する.ブロック成分間の化学結合部位に機能性分子となる有機基を導入し,それらの集合体をブロック共重合体界面に配置配列化させることにより,任意の分子がサブナノメートル界面にて精密に構造制御された新しい界面薄膜材料の創成に関する基盤研究を実施する.

  • Research Products

    (21 results)

All 2019 2018 Other

All Int'l Joint Research (1 results) Journal Article (5 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Peer Reviewed: 5 results) Presentation (13 results) (of which Int'l Joint Research: 7 results,  Invited: 1 results) Book (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results) (of which Overseas: 1 results)

  • [Int'l Joint Research] University of Wisconsin-Madison/Cornell University(米国)

    • Country Name
      U.S.A.
    • Counterpart Institution
      University of Wisconsin-Madison/Cornell University
  • [Journal Article] Fabrication of Well-Ordered Mesoporous Polyimide Films by a Soft-Template Method2019

    • Author(s)
      Komamura Takahiro、Okuhara Kenta、Horiuchi Shin、Nabae Yuta、Hayakawa Teruaki
    • Journal Title

      ACS Applied Polymer Materials

      Volume: 1 Pages: 1209~1219

    • DOI

      10.1021/acsapm.9b00211

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Induction of periodic nanostructures in polythiophene films through block copolymer templating2019

    • Author(s)
      Azuma Koei、Komamura Takahiro、Chandra Alvin、Kato Fuminobu、Nabae Yuta、Hayakawa Teruaki
    • Journal Title

      Journal of Polymer Science Part A: Polymer Chemistry

      Volume: 57 Pages: 1105~1112

    • DOI

      10.1002/pola.29365

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Chemically tailored high-χ block copolymers for perpendicular lamellae via thermal annealing2019

    • Author(s)
      Yoshimura Yasunari、Chandra Alvin、Nabae Yuta、Hayakawa Teruaki
    • Journal Title

      Soft Matter

      Volume: 15 Pages: 3497~3506

    • DOI

      10.1039/c9sm00128j

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Self-Assembly of an Ultrahigh-χ Block Copolymer with Versatile Etch Selectivity2018

    • Author(s)
      Azuma Koei、Sun Jian、Choo Youngwoo、Rokhlenko Yekaterina、Dwyer Jonathan H.、Schweitzer Beau、Hayakawa Teruaki、Osuji Chinedum O.、Gopalan Padma
    • Journal Title

      Macromolecules

      Volume: 51 Pages: 6460~6467

    • DOI

      10.1021/acs.macromol.8b01409

    • Peer Reviewed / Int'l Joint Research
  • [Journal Article] Inducing defects in ordered mesoporous carbons via the block copolymer-templated high-temperature carbonization of nitrogen-containing polymeric precursors2018

    • Author(s)
      Gao Ling、Chandra Alvin、Nabae Yuta、Hayakawa Teruaki
    • Journal Title

      Polymer Journal

      Volume: 50 Pages: 389~396

    • DOI

      10.1038/s41428-018-0023-0

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Thermotropic liquid crystalline oligomers with selectively removable moieties for nanofabrication2018

    • Author(s)
      Aoki, Mana; Shimokawa, Kenta; Nabae, Yuta; Hayakawa, Teruaki.
    • Organizer
      255th ACS National Meeting
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Synthesis of fluorine-containing block copolymers for porous membrane preparation via RAFT2018

    • Author(s)
      Kurimoto, Sho; Nakatani, Ryuichi; Chandra, Alvin; Nabae, Yuta; Hayakawa, Teruaki.
    • Organizer
      255th ACS National Meeting
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Single-digit nanometer polysiloxane-based block copolymers: Design, synthesis, and perpendicular orientation control2018

    • Author(s)
      Yamazaki, Seina; Odashima, Rin; Seshimo, Takehiro; Nabae, Yuta; Hayakawa, Teruaki.
    • Organizer
      255th ACS National Meeting
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Single-digit nanometer designer block copolymers to balance surface free energies in thin films for perpendicular orientation control2018

    • Author(s)
      Yoshimura, Yasunari; Nabae, Yuta; Hayakawa, Teruaki.
    • Organizer
      255th ACS National Meeting
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 有機鋳型法を用いたポリイミド複合膜の作製とオゾン分解によるナノ構造の形成2018

    • Author(s)
      駒村貴裕, 難波江裕太, 早川晃鏡
    • Organizer
      第67回 高分子学会年次大会
  • [Presentation] Surface Fabrication of Block Copolymer-Templated Polyimide Films Using Oxygen Reactive Ion Etching2018

    • Author(s)
      Takahiro Komamura, Yuta Nabae, Teruaki Hayakawa
    • Organizer
      Polycondensation2018
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 側鎖導入率制御によるシリコン含有系ブロック共重合体の構造形態の多様化2018

    • Author(s)
      山崎星奈,瀬下武広,難波江裕太,川名大助,山崎晃義,早川晃鏡
    • Organizer
      第67回高分子学会年次大会
  • [Presentation] フッ素含有アルキル鎖導入によるポリスチレン-b-ポリ(2-ビニルピリジン)のサブナノ界面構造制御2018

    • Author(s)
      安形佳宏 難波江裕太 早川晃鏡
    • Organizer
      第67回高分子学会年次大会
  • [Presentation] ポリメタクリル酸グリシジルの高分子反応を利用した強偏析性ブック共重合体の開発と薄膜ミクロ相分離構造の配向制御2018

    • Author(s)
      吉村康成,難波江裕太, 早川晃鏡
    • Organizer
      第28回日本MRS年次大会
  • [Presentation] RAFT重合によるフッ素含有ブロック共重合体の合成と自己組織化多孔質膜の創製2018

    • Author(s)
      栗本憧・チャンドラ アルヴィン・中谷隆一・難波江裕太・早川晃鏡
    • Organizer
      第67回高分子学会年次大会
  • [Presentation] 超微細加工を指向した液晶性中分子の合成と自己組織化構造2018

    • Author(s)
      青木眞奈・下川賢大・難波江裕太・早川晃鏡
    • Organizer
      第67回高分子学会年次大会
  • [Presentation] Evolution of Perpendicular Lamellae in High-χ Block Copolymers via In-Situ Atomic Force Microscopy2018

    • Author(s)
      A. Chandra, R. Nakatani, T. Uchiyama, Y. Nabae, Y. Seino, H. Sato, Y. Kasahara, T. Azuma, T. Hayakawa
    • Organizer
      4th International Symposium on DSA
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] In-Situ AFM Studies of Perpendicular Lamellae Evolution2018

    • Author(s)
      A. Chandra, R. Nakatani, Y. Nabae, T. Hayakawa
    • Organizer
      Japan-Korea Joint Symposium on Polymer Science 2018
    • Int'l Joint Research
  • [Book] リビングラジカル重合―機能性高分子の合成と応用展開― 第Ⅱ編 機能性高分子開発 第2章 リビングラジカル重合によるPOSS含有ブロック共重合体の合成2018

    • Author(s)
      早川晃鏡
    • Total Pages
      10
    • Publisher
      シーエムシー出版
  • [Patent(Industrial Property Rights)] Silicone containing block copolymer, and method of producing phase-separated structure for forming a guide pattern on a substrate2018

    • Inventor(s)
      Hayakawa, T; Yamazaki, S et al
    • Industrial Property Rights Holder
      Hayakawa, T; Yamazaki, S et al
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      US 20180244856 A1 20180830
    • Overseas

URL: 

Published: 2019-12-27  

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