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2018 Fiscal Year Annual Research Report

Chemical vapor deposition of highly ordered nanostructures under an intense laser field

Research Project

Project/Area Number 17H03426
Research InstitutionYokohama National University

Principal Investigator

伊藤 暁彦  横浜国立大学, 大学院環境情報研究院, 准教授 (20451635)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 吉川 彰  東北大学, 金属材料研究所, 教授 (50292264)
後藤 孝  長岡技術科学大学, 工学研究科, 特任教授 (60125549)
鎌田 圭  東北大学, 未来科学技術共同研究センター, 准教授 (60639649)
且井 宏和  国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 主任研究員 (70610202)
Project Period (FY) 2017-04-01 – 2020-03-31
Keywords化学気相析出 / 自己組織化 / セラミックス / コーティング / 配向制御
Outline of Annual Research Achievements

一般に、共晶成長は、液相からの溶融凝固過程において観察される。本研究課題では、この先入観を覆し、気相からの共晶成長を利用する。この目的を達成するために、申請者が独自に発展させてきた高強度レーザー反応場での高速化学気相析出法を用いる。これは、従来の溶融法を用いた共晶組織の形成手法とは異なる、新しい着想による気相からの高次ナノ構造体のコーティングプロセスである。
本年度は、Al2O3-Lu2O3系のナノ複合膜の合成実験を行った。出発原料には、Al、Mg、Lu源としてそれぞれのβ-ジケトン錯体、Si源としてオルトケイ酸テトラエチルを用いた。これらの化合物を各原料炉内に設置し、原料炉内温度を変化させることで、原料気化量を制御した。基板には、多結晶AlN板、単結晶Al2O3基板、単結晶YSZ基板を用いた。半導体レーザーまたは CO2レーザーを用いて、成膜を行った。合成した膜は、X線回折 (XRD) を用いて相同定を行い、走査型電子顕微鏡 (SEM) を用いて組織観察を行った。
Al2O3-Lu2O3系ナノ複合膜の合成においては、α-Al2O3とLu3Al5O12 (LuAG) とのナノ複合膜が得られ、各相が同時成長した共晶様組織をが観察された。また、Eu賦活:Lu2O3膜を合成して蛍光波長や蛍光寿命を測定し、バルク体と同等であることを確認した。
Al2O3-MgO系、MgO-SiO2系においても基礎的な実験を行い、特にMgO-SiO2系では単相膜の合成において、(020) 配向 MgSiO3-orthopyroxene 膜および (002) 配向 α-Mg2SiO4 膜の合成に成功し、顕著な自己配向成長が起こることを明らかにした。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

3: Progress in research has been slightly delayed.

Reason

年度初めに半導体レーザーの予期せぬ故障があり、海外メーカーに返送しての修理対応となった。急遽、CO2レーザーを入手して対応にあたり、合成実験のダウンタイムが最小限に留まるよう努めたが、レーザー変更に伴い合成条件の最適化を改めて行ったり、レーザー修理対応においてメーカー側との見解相違により交渉が必要になるなど、少なからず研究の進捗に影響を与えた。一方、レーザー波長が生成物に与える影響について知見が得られた点、他材料系のスクリーニング実験を行えた点、波長選択の自由度や研究設備に厚みが増した点といった利点もあった。

Strategy for Future Research Activity

これまでの実験において、Al2O3-HfO2共晶系およびAl2O3-Lu2O3共晶系の化学気相析出法において、特異なナノ構造の形成を確認した。最終年度は、これらの高次ナノ構造膜の光学的特性の評価を行い、研究成果を取りまとめる計画である。

  • Research Products

    (24 results)

All 2019 2018 Other

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results) Presentation (21 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Invited: 2 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Self-oriented growth of (020) MgSiO3-orthopyroxene and (002) α-Mg2SiO4 films using metal-organic chemical vapor deposition2019

    • Author(s)
      Masakazu Ikai, Akihiko Ito
    • Journal Title

      Ceramics International

      Volume: 45 Pages: 13567-13570

    • DOI

      10.1016/j.ceramint.2019.03.212

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] レーザを利用した高速CVDによるセラミックコーティングの新展開2019

    • Author(s)
      伊藤暁彦
    • Journal Title

      溶射

      Volume: 55 Pages: 176-182

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Chemical Vapor Deposition of Ytterbium Silicate Coatings for SiC Ceramic Matrix Composite2019

    • Author(s)
      Akihiko Ito, Tomohiro Hara
    • Organizer
      ICACC 2019
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 化学気相析出法によるHfO2-Al2O3共晶系ナノ複合膜の合成2019

    • Author(s)
      松本昭源, 伊藤暁彦
    • Organizer
      日本セラミックス協会 2019年年会
  • [Presentation] マイクロカンチレバー試験片で測定したSi-C-Oコーティングのメソスケール機械的特性2019

    • Author(s)
      多々見純一, 井本有美, 伊藤暁彦, 飯島志行, 矢矧束穂, 高橋拓実
    • Organizer
      日本セラミックス協会 2019年年会
  • [Presentation] ZrO2界面相を有するSiC/SiCミニコンポジットの作製と界面力学特性の評価2019

    • Author(s)
      池田憲優, 後藤 健, 向後保雄, 井上 遼, 伊藤暁彦, 伊海雅和
    • Organizer
      日本セラミックス協会 2019年年会
  • [Presentation] 化学気相析出法によるHfO2-Al2O3 共晶セラミックス被膜の合成2018

    • Author(s)
      松本昭源, 伊藤暁彦
    • Organizer
      第13回セラミックフェスタin神奈川
  • [Presentation] 化学気相析出法を用いたHfO2-Al2O3共晶系ナノ複合膜の合成2018

    • Author(s)
      松本昭源, 伊藤暁彦
    • Organizer
      日本セラミックス協会 関西支部第21回 若手フォーラム
    • Invited
  • [Presentation] MOCVD を用いたHfO2-Al2O3共晶系ナノ複合膜の合成における成膜温度が膜組織に及ぼす影響2018

    • Author(s)
      松本昭源, 伊藤暁彦
    • Organizer
      日本セラミックス協会 関東支部研究発表会
  • [Presentation] MOCVD を用いたHfO2-Al2O3共晶系ナノ複合膜の合成2018

    • Author(s)
      松本昭源, 伊藤暁彦
    • Organizer
      日本セラミックス協会 第31回秋期シンポジウム
  • [Presentation] 化学気相析出法によるYbシリケートの繊維コーティング2018

    • Author(s)
      原 朋弘, 伊藤暁彦
    • Organizer
      日本セラミックス協会 第31回秋期シンポジウム
  • [Presentation] SiC/SiC向けYbシリケート繊維コーティングの開発2018

    • Author(s)
      後藤 健, 伊藤暁彦, 高橋誠治, 松田哲志, 北岡諭, 後藤孝
    • Organizer
      日本セラミックス協会 第31回秋期シンポジウム
  • [Presentation] ZrO2界面相を有するSiC/SiCミニコンポジットの作製と界面力学特性の評価2018

    • Author(s)
      池田憲優, 松村佳子, 後藤 健, 向後保雄, 井上 遼, 伊藤暁彦, 伊海雅和
    • Organizer
      日本セラミックス協会 第31回秋期シンポジウム
  • [Presentation] MOCVD 法による自己配向Y2O3膜の合成2018

    • Author(s)
      小澤祐哉, 伊藤暁彦
    • Organizer
      日本セラミックス協会 第31回秋期シンポジウム
  • [Presentation] 気相法による新しい光学材料の合成法の開発2018

    • Author(s)
      伊藤暁彦
    • Organizer
      第13回次世代先端光科学研究会
    • Invited
  • [Presentation] 気相からのHfO2-Al2O3共晶系ナノ複合膜の合成2018

    • Author(s)
      松本昭源, 伊藤暁彦
    • Organizer
      2018年度エンジニアリングセラミックス若手セミナー
  • [Presentation] MOCVD法によるSrO-Fe2O3系膜の合成2018

    • Author(s)
      加藤起基, 伊藤暁彦
    • Organizer
      先進セラミックス研究会 若手セミナー2018
  • [Presentation] MOCVD法によるTiO2膜コーティング2018

    • Author(s)
      北村朱里, 伊藤暁彦
    • Organizer
      先進セラミックス研究会 若手セミナー2018
  • [Presentation] MOCVD法によるエピタキシャルY2O3膜の合成2018

    • Author(s)
      小澤祐哉, 伊藤暁彦
    • Organizer
      先進セラミックス研究会 若手セミナー2018
  • [Presentation] 化学気相析出法によるYbシリケートの繊維コーティング2018

    • Author(s)
      原 朋弘, 伊藤暁彦
    • Organizer
      先進セラミックス研究会 若手セミナー2018
  • [Presentation] MOCVD法によるY2O3-Fe2O3系薄膜の合成2018

    • Author(s)
      相田穂乃香, 伊藤暁彦
    • Organizer
      先進セラミックス研究会 若手セミナー2018
  • [Presentation] MOCVD法を用いたWO3膜の合成2018

    • Author(s)
      森下裕貴, 伊藤暁彦
    • Organizer
      先進セラミックス研究会 若手セミナー2018
  • [Presentation] ナノ構造制御した高機能ナノ複相膜コーティング技術2018

    • Author(s)
      伊藤暁彦
    • Organizer
      JSTイノベーション・ジャパン2018
  • [Remarks] 伊藤暁彦研究室 :: 横浜国立大学大学院 環境情報研究院 :: 化学EP

    • URL

      http://itonium.net/ynu/

URL: 

Published: 2019-12-27  

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