• Search Research Projects
  • Search Researchers
  • How to Use
  1. Back to project page

2007 Fiscal Year Annual Research Report

第一原理量子論によるナノデバイス材料・界面の物性予測

Research Project

Project/Area Number 18063003
Research InstitutionUniversity of Tsukuba

Principal Investigator

白石 賢二  University of Tsukuba, 大学院・数理物質科学研究科, 教授 (20334039)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 押山 淳  東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (80143361)
BOERO Mauro  筑波大学, 大学院・数理物質科学研究科, 准教授 (40361315)
岡田 晋  筑波大学, 大学院・数理物質科学研究科, 准教授 (70302388)
中山 隆史  千葉大学, 理学部, 教授 (70189075)
山内 淳  慶応義塾大学, 理工学部, 講師 (90383984)
Keywords界面 / 新材料 / 理論 / ナノ物性 / 半導体 / MOSトランジスタ / 量子効果 / 炭素ナノチューブ
Research Abstract

1.ナノキャパシタンスの量子効果
ポストスケーリング半導体テクノロジーにおいては、ナノ構造での物理量の同定が極めて重要である。中でもキャパシタンスはその一例である。我々は18年度に明らかにしたゲートオールアラウンド型のナノキャパシタンスに加え、フロントゲート型のナノキャパシタンスの計算を第一原理量子論によって行った。その結果、フロントゲート型においてもゲートオールアラウンド型と同様に、ナノキャパシタンスが大きなバイアス依存性を持つことを明らかにした。
2.ナノ界面でのショットキーバリア
19年度はショットキー障壁高さの絶対的極限とこれまで信じられてきた、「ショットキー極限」と「バーディーン極限」の再検討を行った。その結果、Metal Induced Gap State(MIGS)の染み込みが小さいときには、界面の原子構造とそれに由来する選択的界面軌道混成がショットキー障壁高さを支配するため、原理的には「ショットキー極限」も「バーディーン極限」も本当の極限ではないことを理論的に明らかにした。さらに、実験グループと共同で「ショットキー極限の破綻」を実証した。
3.歪みチャネル層における原子空孔
18年度は2軸性の歪みを受けたGeチャネル層におけるGe原子空孔の電子構造の計算を行ったが19年度は1軸性の圧縮歪みがGe原子空孔に与える効果を検討した。その結果、一軸性の圧縮歪みを印加した場合、Ge単原子空孔はアクセプター準位を作りうることを明らかにした。

  • Research Products

    (16 results)

All 2008 2007

All Journal Article (10 results) (of which Peer Reviewed: 10 results) Presentation (6 results)

  • [Journal Article] Ge vacancies at Ge/Si interfaces: Stress-enhanced pairing dist ortion2008

    • Author(s)
      K., Takai・K., Shiraishi・A., Oshiyama
    • Journal Title

      PHYSICAL REVIEW B 77

      Pages: Art.No.045308

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Quantum effects in a double-walled carbon nanotube capacitor2007

    • Author(s)
      K., Uchida・S., Okada・K., Shiraishi・A., Oshiyama
    • Journal Title

      PHYSICAL REVIEW B 76

      Pages: Art.No.155436

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Suppression of oxygen vacancy formation in Hf-based high-k dielectrics by lanthanum incorporation2007

    • Author(s)
      N., Umezawa・K., Shiraishi・S., Sugino, et. al.
    • Journal Title

      APPLIED PHYSICS LETTERS 91

      Pages: Art.No.132904

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Quantum effects in a cylindrical carbon-nanotube capacito2007

    • Author(s)
      K., Uchida・S., Okada・K., Shiraishi・A., Oshiyama
    • Journal Title

      JOURNAL OF PHYSICS-CONDENSED MATTER 19

      Pages: Art.No.365218

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Hafnium 4f core-level shifts caused by nitrogen incorporation in Hf-based high-k gate dielectrics2007

    • Author(s)
      N., Umezawa・K., Shiraishi・S., Miyazaki, et. al.
    • Journal Title

      JAPANEST JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 46

      Pages: 3507-3509

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Guiding principle of energy level controllability of silicon dangling bonds in HfSiON2007

    • Author(s)
      N., Umezawa・K., Shiraishi・S., Miyazaki, et. al.
    • Journal Title

      JAPANEST JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 46

      Pages: 1891-1894

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Physical origin of stress-induced leakage currents in ultra-thin silicon dioxide films2007

    • Author(s)
      T., ・Endoh・K., Hirose・K., Shiraishi
    • Journal Title

      IEICE TRANSACTIONS ON ELECTRONICS E90C

      Pages: 955-961

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Role of nitrogen atoms in reduction of electron charge traps in Hf-based high-k dielectrics2007

    • Author(s)
      N., Umezawa・K., Shiraishi・K., Torii, et. al.
    • Journal Title

      IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS 28

      Pages: 363-365

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Effective-Mass Anormalies of Strained Silicon Thin Films:Surface and Confinement Effects2007

    • Author(s)
      J., Yamauchi・S., Matsuno
    • Journal Title

      JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 46

      Pages: 3273-3276

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Effective-Mass Anormalies in Strained Si Thin Films and Crystals2007

    • Author(s)
      J., Yamauchi
    • Journal Title

      IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS; 29

      Pages: 186-1886

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Characteristic Nature of High-K Dielectric Interfaces2008

    • Author(s)
      K. Shiraishi
    • Organizer
      IEEE EDS WIMNACT 2008 on NANOELECRONICS
    • Place of Presentation
      Sikkim, India
    • Year and Date
      20080306-08
  • [Presentation] Interface Properties of Hf-Based High-K Gate Dielectrics -O Vacancies and Interface Reaction2007

    • Author(s)
      K. Shiraishi
    • Organizer
      14th International Workshop on the Physics of Semicon ductor Devices
    • Place of Presentation
      Mumbai, India
    • Year and Date
      20071216-20
  • [Presentation] Theoretical Studies on Fermi Level Pining of Hf-Based High-K Gate Stacks Based on Thermodynamics2007

    • Author(s)
      K., Shiraishi・Y., Akasaka・G., Nakamura・T., Nakayama・S., Miyazaki・H., Watanabe・A., Ohta・K., Ohmori・T., Chikyow・Y., Nara・K., Yamada
    • Organizer
      212th Meeting of Electrochemical Society
    • Place of Presentation
      Washington D. C., USA
    • Year and Date
      20071007-12
  • [Presentation] Schottky barrier and stability of metal/high-k interfaces; theoretical view2007

    • Author(s)
      T. Nakayama
    • Organizer
      Int. Conf. Solid State Devices and Materials
    • Place of Presentation
      Tsukuba, Japan.
    • Year and Date
      20070919-21
  • [Presentation] How can first principles calculations give large contributions to industries?2007

    • Author(s)
      K., Shiraishi
    • Organizer
      ISSP International Workshiop/Symposium on Foundation and Application of Density Functional Theory
    • Place of Presentation
      Kashiwa, Japan
    • Year and Date
      20070801-03
  • [Presentation] Theoretical Studies on Metal/.High-k Gate Stacks2007

    • Author(s)
      K. Shiraishi, Y. Akasaka, G. Nakamura, T. Nakayama, S.Miyazaki, H.Watanabe, A.Ohta, K. Ohmori, T. Chikyow, Y. Nara, K.Yamabe, and K. Yamada
    • Organizer
      211th Meeting of Electrochemical Society
    • Place of Presentation
      Chicago, USA
    • Year and Date
      200705-7-10

URL: 

Published: 2010-02-04   Modified: 2016-04-21  

Information User Guide FAQ News Terms of Use Attribution of KAKENHI

Powered by NII kakenhi