2009 Fiscal Year Annual Research Report
ナノスケール配線および回路のシグナル・インテグリティに関する研究
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18063008
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
益 一哉 Tokyo Institute of Technology, 統合研究院, 教授 (20157192)
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| Keywords | ナノ配線 / シグナルインテグリティ / インテグリティ / 揺らぎ / ばらつき |
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| Research Abstract |
本研究では、加工寸法で言えば32nm以降のナノスケールデバイスやナノ配線を集積化したときの、物理的な揺らぎの影響や多数の回路や配線を集積化したときに生じるクロストークなどの相互干渉の影響を定量的に評価、予測し、集積化設計技術として構築する。
具体的には、まずナノ金属及びカーボンナノチューブ(CNT)やウォール(CNW)配線の、特に高周波(110GHz)信号伝搬特性を明らかにする。次に、ナノデバイス、ナノ配線を集積化したときの回路性能、回路特性揺らぎ、ジャングルのような長距離多層配線構造内における100GHzの周波数成分を有する信号伝送の揺らぎやクロストーク評価を行い、ナノデバイス集積におけるシグナルインテグリティ研究を行う。
研究計画に沿って、平成20年度は超低消費電力MUX/DEMX回路の設計試作を行い、オンチップネットワークに適用可能な回路として利用できることを示した。併せて、デバイス特性揺らぎを正確に見積もる方法も確立し、それらを回路設計に取り込むことの検討も行った。
平成18年～21年度の研究を通じ、ナノ配線時代の配線として、特にグローバル配線として期待されている伝送線路配線について、配線そのものの信号伝送モデルの提示や評価方法、具体的な集積化指針となる回路設計試作を通じた実証、さらに他の光配線やワイヤレス配線との比較を行った。ナノメータ世代の配線技術の方向性を示すことができた。
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