2007 Fiscal Year Annual Research Report
硫黄資源の有効活用技術開発を目的とする含硫黄高分子の合成と特性評価
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18205014
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
高田 十志和 Tokyo Institute of Technology, 大学院・理工学研究科, 教授 (40179445)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
小山 靖人 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助教 (10456262)
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| Keywords | 硫黄 / 硫黄資源 / 有効利用技術 / 含硫黄高分子 / 特性解析 |
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| Research Abstract |
硫黄資源の高度利用を目的とした硫黄の高付加価値化技術開発の基礎を築き、また新しい研究領域・分野をつくることを目的に、新規な硫黄含有物質の合成とそれらの特性評価を行った。その結果(1)原子屈折の大きな硫黄を含む新規高屈折率ポリマーの合成を進め、(i)スルフィド構造を含む脂肪族及び全芳香族ポリマーの合成と屈折率、アッベ数の評価を行い、また(ii)9位に芳香族置換基を持つフルオレン構造の含硫黄ポリマーへの導入とそれによる高屈折率化、低複屈折化を実現した。さらに(2)硫黄原子含有リサイクルポリマーの開発に着手した。すなわち、芳香族ジスルフィドの結合エネルギーは非常に弱く、光などの外部刺激によって開裂する性質に着目し、芳香族ジスルフィド化合物の動的な共有結合を利用したインターロック分子の形成反応を確立した。こうした系を架橋高分子に適用すれば、(i)共有結合と同様の強さを持つ結合であり、(ii)幹ポリマー上での結合形成反応を伴わないインターロック結合による、動的な架橋・解架橋(動的共有結合を用いた非共有結合架橋系)が可能になり、リサイクル特性に優れたポリマーが構築できると期待される。
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