Development of filtered-arc-deposition source with activated anode and preparation of functional-amorphous carbon film

2011 Fiscal Year Final Research Report

• Project/Area Number: 21360131
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• Allocation Type: Single-year Grants
• Section: 一般
• Research Field: Power engineering/Power conversion/Electric machinery
• Research Institution: Toyohashi University of Technology
• Principal Investigator: TAKIKAWA Hirofumi 豊橋技術科学大学, 大学院・工学研究科, 教授 (90226952)
• Co-Investigator(Renkei-kenkyūsha): SUDA Yoshiyuki 豊橋技術科学大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (70301942) ; OKE Shinichiro 津山工業高等専門学校, 電子制御工学科, 講師 (20362329)
• Project Period (FY): 2009 – 2011
• Keywords: 電気機器 / 真空アーク

Research Abstract

About a functional film deposition apparatus using the vacuum arc discharge plasma, we designed and developed a new filtered-arc-deposition system for doping dissimilar element into DLC film and preparing high-quality(high smoothness, uniform and droplet-free) DLC film. Apparatus function was assessed and dissimilar element doped DLC film was prepared.

Research Products

• [Journal Article] Removal of diamond-like carbon film by oxygen-dominated plasma beam converted from filtered carbon-cathodic arc (2011)
  • Author(s): H. Tanoue, M. Kamiya, Y. Suda, S. Oke, H. Takikawa, Y. Hasegawa, M. Taki, N. Tsuji, T. Ishikawa, H. Yasui
  • Journal Title: Japanese Journal of Applied Physics Volume: Vol.50 Pages: 01AF12_01-01AF12_06
• [Journal Article] 中真空動作磁気引き出し型ガスプラズマ銃の開発と基礎特性 (2011)
  • Author(s): 柳田太一郎, 田上英人, 神谷雅男, 須田善行, 滝川浩史, 瀧真, 長谷川祐史, 石川剛史
  • Journal Title: 電気学会論文誌A Volume: Vol.131, No.2 Pages: 139-144
• [Journal Article] フィルタードアークプラズマビームの磁界制御によるドロップレットフリーDLC膜の形成 (2010)
  • Author(s): 奥田浩史, 神谷雅男, 田上英人, 須田善行, 滝川浩史
  • Journal Title: プラズマ応用科学 Volume: Vol.18, No.2 Pages: 159-164
• [Journal Article] Effect of gas introduction position on substrate etching by means of Ar-dominated graphite-cathodic-arc plasma beam in at-FAD (2010)
  • Author(s): H. Tanoue, M. Kamiya, S. Oke, Y. Suda, H. Takikawa, Y. Hasegawa, M. Taki, N. Tsuji, T. Ishikawa, H. Yasui, S. Temmei, H. Takahashi
  • Journal Title: Thin Solid Films Volume: Vol.518, No.13 Pages: 3546-3550
• [Journal Article] Argon-dominated plasma beam generated by filtered vacuum arc and its substrate etching (2009)
  • Author(s): H. Tanoue, M. Kamiya, S. Oke, Y. Suda, H. Takikawa, Y. Hasegawa, M. Taki, M. Kumagai, M. Kano, T. Ishikawa, H. Yasui
  • Journal Title: Applied Surface Science Volume: 255 Pages: 7780-7785
• [Journal Article] T-shape filtered arc deposition system with built-in electrostatic macro-particle trap for DLC film preparation (2009)
  • Author(s): M. Kamiya, T. Yanagita, H. Tanoue, S. Oke, Y. Suda, H. Takikawa, M. Taki, Y. Hasegawa, T. Ishikawa, H. Yasui
  • Journal Title: Thin Solid Films Volume: Vol.518, No.5 Pages: 1498-1502
• [Journal Article] フィルタードアーク蒸着で形成したダイヤモンドライクカーボン膜の光学特性 (2009)
  • Author(s): 神谷雅男, 川口裕輔, 田上英人, 須田善行, 滝川浩史
  • Journal Title: プラズマ応用科学 Volume: Vol.17, No.2 Pages: 125-132
• [Presentation] 水素フリーダイヤモンドライクカーボン膜の半導体性評価 (2011)
  • Author(s): 田上英人,柏木大幸,奥田浩史,角口公章,須田善行,滝川浩史,神谷雅男,瀧真,長谷川祐史,辻信広,石川剛史
  • Organizer: 平成23年度電気関係学会東海支部連合大会
  • Place of Presentation: 三重大学,三重県
  • Year and Date: 2011-09-26
• [Presentation] ダイヤモンドライクカーボン膜を作る・使う・評価する-成膜技術・応用領域・評価法 (2011)
  • Author(s): 滝川浩史
  • Organizer: KAST教育講座
  • Place of Presentation: かながわサイエンスパーク,神奈川県
  • Year and Date: 2011-07-28
• [Presentation] フィルタードアークプラズマビームの回転スキャンおよび偏向制御 (2010)
  • Author(s): 奥田浩史,柏木大幸,田上英人,神谷雅男,柳田太一郎,須田善行,滝川浩史,長谷川祐史,瀧真,辻信広,石川剛史,安井治之,金子智
  • Organizer: 平成22年電気関係学会東海支部連合大会,I5-2
  • Place of Presentation: 中部大学,愛知県
  • Year and Date: 2010-08-31
• [Presentation] フィルタードアークプラズマビームを用いた水素フリーDLC膜の生成 (2010)
  • Author(s): 奥田浩史,田上英人,神谷雅男,柳田太一郎,内藤翔太,須田善行,滝川浩史,長谷川祐史,瀧真,辻信広,石川剛史,安井治之
  • Organizer: 平成22年電気学会放電・静止器・開閉保護合同研究会
  • Place of Presentation: 東京都市大学,東京都
  • Year and Date: 2010-06-28
• [Presentation] Super Hard DLC CoatingTechnology (2009)
  • Author(s): 滝川浩史
  • Organizer: World Tribology Congress2009
  • Place of Presentation: 国立京都国際会館,京都府
  • Year and Date: 2009-09-08
• [Presentation] Effect ofgas introduction position on substrateetching using Ar plasma-beam inμT-FAD (2009)
  • Author(s): H. Tanoue, M. Kamiya, S. Oke, Y. Suda, H. Takikawa, Y. Hasegawa, M. Taki, N. Tsuji, T. Ishikawa, H. Yasui
  • Organizer: SPSM-22
  • Place of Presentation: 東京大学,東京都
  • Year and Date: 2009-06-15
• [Remarks] Web上で新聞報道等の情報も明記
  • URL: http://www.pes.ee.tut.ac.jp
• [Patent(Industrial Property Rights)] プラズマ処理装置 (2011)
  • Inventor(s): 滝川浩史,岩崎康浩,辻信弘,長谷川祐史
  • Industrial Property Rights Holder: 豊橋技術科学大学、株式会社オンワード技研
  • Industrial Property Number: 特許、特許第4883602号
  • Acquisition Date: 2011-12-16
• [Patent(Industrial Property Rights)] プラズマ表面処理方法及びプラズマ処理装置 (2011)
  • Inventor(s): 滝川浩史,辻信弘,長谷川祐史
  • Industrial Property Rights Holder: 豊橋技術科学大学、株式会社オンワード技研
  • Industrial Property Number: 特許、特許第4883601号
  • Acquisition Date: 2011-12-16
• [Patent(Industrial Property Rights)] DLC被覆工具 (2011)
  • Inventor(s): 滝川浩史,長谷川祐史,瀧真
  • Industrial Property Rights Holder: 豊橋技術科学大学、株式会社オンワード技研
  • Industrial Property Number: 特許、特許第4780734号
  • Acquisition Date: 2011-07-15
• [Patent(Industrial Property Rights)] DLC被覆工具 (2009)
  • Inventor(s): 滝川浩史,長谷川祐史,瀧真
  • Industrial Property Rights Holder: 豊橋技術科学大学、株式会社オンワード技研
  • Industrial Property Number: 特許、特許第4424555号
  • Acquisition Date: 2009-12-18
• [Patent(Industrial Property Rights)] プラズマ生成装置 (2009)
  • Inventor(s): 滝川浩史,椎名祐一
  • Industrial Property Rights Holder: 滝川浩史,株式会社フェローテック
  • Industrial Property Number: 特許、特許第4373252号
  • Acquisition Date: 2009-09-11
• [Patent(Industrial Property Rights)] プラズマ生成装置 (2009)
  • Inventor(s): 滝川浩史,椎名祐一
  • Industrial Property Rights Holder: 滝川浩史,株式会社フェローテック
  • Industrial Property Number: 特許、特許第4319556号
  • Acquisition Date: 2009-06-05