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2009 Fiscal Year Annual Research Report

光によるQ値可変を実現する半導体多層膜共振器の創製

Research Project

Project/Area Number 21656084
Research InstitutionThe University of Tokushima

Principal Investigator

北田 貴弘  The University of Tokushima, 大学院・ソシオテクノサイエンス研究部, 准教授 (90283738)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 井須 俊郎  徳島大学, 大学院・ソシオテクノサイエンス研究部, 教授 (00379546)
森田 健  徳島大学, 大学院・ソシオテクノサイエンス研究部, 助教 (30448344)
Keywords微小共振器 / 量子ドット / MBE、エピタキシャル / 非線形光学応答 / 超高速全光デバイス
Research Abstract

光共振器の性能指数であるQ値を超短パルス光によって可変し得る半導体多層膜共振器の創製を目指し、1桁程度のQ値可変に要求される材料特性及び多層膜構造を光学応答シミュレーションによって導出するとともに、高機能過飽和吸収媒体として共振器層に用いる高い非線形性と超高速応答特性を併せ持つ量子ドットの開発を進めた。共振器層での過飽和吸収効果と内部光電場増大効果を取り入れた伝達マトリックス法によるシミュレーションプログラムを開発し、過飽和吸収効果による共振器Q値の変化と材料特性・積層構造との関係を求めた。共振器を構成する上下のGaAs/A1Asブラッグ反射多層膜の積層数が各々20層である場合、共振器層の吸収係数が1,000cm-1程度であれば、過飽和吸収効果による透過率変化に伴って1桁程度のQ値増大が実現可能であることがわかった。高機能過飽和吸収媒体の開発では、歪緩和InGaAsバ旨リア層上にInAs量子ドットを分子線エピタキシー法で形成する際にErを添加し、その添加効果を調べた。中心波長が1.5ミクロンの100フェムト秒超短パルス光を用いたポンプ・プローブ法で光励起キャリアの緩和特性を評価すると、非輻射中心へのキャリア緩和に起因する高速成分にEr添加による顕著な高速化がみられた。Erを添加しない量子ドット試料の緩和時間は18ピコ秒であるのに対し、Erを面密度で2.7E13cm-2添加した量子ドット試料では3.5ピコ秒であった。さらに、輻射緩和に起因する低速成分の寄与も顕著に抑制でき、Er添加が応答速度の高速化に極めて有効であることがわかった。

Research Products

(4 results)

All 2010 2009

All Journal Article Presentation

  • [Journal Article] Marked Enhancement of Optical Kerr Signal in Proportion to the Fourth Power of Quality Factor of a GaAs/AlAs Multilayer Cavity2009

    • Author(s)
      T.Kitada, et al.
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics Vol.48

      Pages: 080203

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 歪緩和バリア層に埋め込んだInAs量子ドットをもつGaAs/AlAs多層膜光共振器による面型全光スイッチ2010

    • Author(s)
      北田貴弘, 他
    • Organizer
      2010年光エレクトロニクス研究会
    • Place of Presentation
      京都大学(京都市)
    • Year and Date
      2010-01-28
  • [Presentation] GaAs/AlAs多層膜共振器におけるpsパルスを用いた光カー信号のQ値依存性2009

    • Author(s)
      森田健, 他
    • Organizer
      2009年秋季第70回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      富山大学(富山市)
    • Year and Date
      2009-09-08
  • [Presentation] Doping effect on photocarrier lifetime in InAs quantum dots with strain-relaxed InGaAs barriers grown by molecular beam epitaxy2009

    • Author(s)
      T.Kitada, et al.
    • Organizer
      The 14th International on Modulated Conference Semiconductor structures (MSS14)
    • Place of Presentation
      神戸国際会議場(神戸市)
    • Year and Date
      2009-07-19

URL: 

Published: 2011-06-15   Modified: 2016-04-21  

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