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2023 Fiscal Year Annual Research Report

Systematic understanding on surface processing by anodization of SiC, and its application in structural and electronic materials

Research Project

Project/Area Number 21H01670
Research InstitutionKyoto University

Principal Investigator

深見 一弘  京都大学, 工学研究科, 准教授 (60452322)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 北田 敦  東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 准教授 (30636254)
Project Period (FY) 2021-04-01 – 2024-03-31
Keywords陽極酸化 / シリコンカーバイド / ダイヤモンド / 電析
Outline of Annual Research Achievements

高い熱安定性、機械強度、化学安定性を誇るSiCを加工することは極めて難しい。これに対し我々は、SiCの格子欠陥生成を定量的に制御することにより、電気化学活性を著しく向上させ、陽極酸化により表面の加工が可能になることを見出してきた。本研究ではSiC結晶の対称性の破れがもたらすと考えているSiCの活性化について、格子欠陥生成と格子振動の選択励起によって活性化機構の解明を目指すことを目的としている。更に、SiC酸化反応にH2Oが必須であることに着目して、超高濃度水溶液を使う自由水の濃度制御法を活用し、電析技術と組み合わせた材料創製を目指している。
本年度は、SiCと同様に安定性に優れ、加工が難しい次世代半導体材料であるダイヤモンドの陽極酸化に取り組んだ。その結果、高エネルギーのイオン照射によって電気化学反応活性が向上し、表面をナノポーラス化できることことが明らかとなった。XPSなどの各種分析を行ったところ、高エネルギーのイオン照射によってsp3の炭素結合の一部がsp2炭素結合へと変化し、それが反応活性を誘起していることが明らかとなった。一方、陽極酸化SiCと金属との複合材料創製の観点から、新たな合金電析技術の開拓も進めた。イオン液体と水の混合液体を用いると、自由水の少ない相分離した液体構造が得られ、これを用いることでCrCoNiミディアムエントロピー合金の電析に成功した。この合金薄膜が高い耐摩耗性と耐食性を有することも明らかとなった。

Research Progress Status

令和5年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

令和5年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (12 results)

All 2024 2023 Other

All Int'l Joint Research (1 results) Journal Article (3 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Peer Reviewed: 3 results,  Open Access: 3 results) Presentation (6 results) (of which Int'l Joint Research: 2 results,  Invited: 2 results) Remarks (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results) (of which Overseas: 1 results)

  • [Int'l Joint Research] Universidad Complutense de Madrid(スペイン)

    • Country Name
      SPAIN
    • Counterpart Institution
      Universidad Complutense de Madrid
  • [Journal Article] Structure and complexation mechanism of aqueous Zn(II)-acetate complex studied by XAFS and Raman spectroscopies2024

    • Author(s)
      Alvaro Munoz-Noval, Kazuhiro Fukami, Takuya Kuruma, Shinjiro Hayakawa
    • Journal Title

      Analytical Sciences

      Volume: 未確定 Pages: 未確定

    • DOI

      10.1007/s44211-024-00549-z

    • Peer Reviewed / Open Access / Int'l Joint Research
  • [Journal Article] Nanoporous boron-doped diamond produced by a combination of high-energy ion irradiation and anodization2023

    • Author(s)
      Chenghao Lin, Yuki Maeda, Kuniaki, Murase, Kazuhiro Fukami
    • Journal Title

      Electrochemistry Communications

      Volume: 149 Pages: 107473~107473

    • DOI

      10.1016/j.elecom.2023.107473

    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Journal Article] CoNiCuミディアムエントロピー合金電析:電析速度の向上とカーボンナノチューブ複合めっき2023

    • Author(s)
      村上勇樹, 邑瀬邦明, 深見一弘
    • Journal Title

      表面技術

      Volume: 74 Pages: 529~533

    • DOI

      10.4139/sfj.74.529

    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Presentation] CnmimCl-H2O浴からのCrCoNiミディアムエントロピー合金電析2024

    • Author(s)
      村上勇樹,石井浩介,西 直哉,邑瀬邦明,深見一弘
    • Organizer
      電気化学会第91回大会
  • [Presentation] グラフェンナノリボンを触媒とするシリコンの気相エッチング2023

    • Author(s)
      多田敦哉,小島崇寛,李澤驍,邑瀬邦明,坂口浩司,深見一弘
    • Organizer
      表面技術協会アノード酸化皮膜の機能化部会(ARS)第38回姫路コンファレンス
  • [Presentation] Electrodeposition of Medium-Entropy Alloy from C4mimCl-H2O Bath2023

    • Author(s)
      Yuki Murakami, Kuniaki Murase, Kazuhiro Fukami
    • Organizer
      International Conference on Surface Engineering (ICSE2023)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Porous structure formation on the surface of next-generation semiconductors: Silicon carbide and diamond as examples2023

    • Author(s)
      Kazuhiro Fukami
    • Organizer
      International Conference on Surface Engineering (ICSE2023)
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] 高硬度・高耐食性を有するCrCoNiミディアムエントロピー合金の電析2023

    • Author(s)
      村上勇樹,石井浩介,西 直哉,邑瀬邦明,深見一弘
    • Organizer
      2023年度第3回関西電気化学研究会
  • [Presentation] 材料表面加工のための電気化学:電位の考え方と使い方2023

    • Author(s)
      深見一弘
    • Organizer
      応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会
    • Invited
  • [Remarks] 深見一弘 研究業績

    • URL

      http://www.echem.mtl.kyoto-u.ac.jp/fukami-list1r.html

  • [Patent(Industrial Property Rights)] 多元系合金めっき膜の生成方法2023

    • Inventor(s)
      深見一弘,村上勇樹,邑瀬邦明
    • Industrial Property Rights Holder
      京都大学
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      PCT/JP2024/005719
    • Overseas

URL: 

Published: 2024-12-25  

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