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2012 Fiscal Year Annual Research Report

ErYSiOシリケート結晶の発光過程におけるErイオン間エネルギー移動の評価

Research Project

Project/Area Number 22560003
Research InstitutionThe University of Electro-Communications

Principal Investigator

木村 忠正  電気通信大学, その他部局等, 名誉教授 (50017365)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 一色 秀夫  電気通信大学, 情報理工学(系)研究科, 准教授 (60260212)
Project Period (FY) 2010-04-01 – 2013-03-31
Keywordsシリコンフォトニクス / エルビウムシリケート / 発光素子 / 光増幅器 / エネルギーマイグレーション / クエンチングメカニズム / 拡散律速モデル
Research Abstract

Er2SiO5結晶はEr-Er間距離が0.4nmと近いため、エネルギーマイグレーションによる発光のクエンチングを生じる。この問題の解明のため、ErxY2-xSiO5 結晶の作製によりEr濃度(Er-Er間距離)を制御し、エネルギーマイグレーションの定量的評価、抑制、クエンチングメカニズム及びサイトの同定を行った。
結晶の作製にはゾルゲル、PLD法を用い、Er濃度を1.6E22/cm3から~8E20/cm3(Er-Er間距離~1nm)まで変化させ、Er-4f内殻遷移1.529μm発光の強度と蛍光寿命を観測した。Er濃度を下げると発光強度が増加すると同時に蛍光寿命も長くなる実験結果からマイグレーションによる発光のクエンチングが存在する。励起Erイオンのエネルギーがマイグレーションにより拡散し、結晶粒界でクエンチングすると考え、拡散律速モデルを構築した。このモデルは蛍光寿命のEr濃度依存性の実験結果を再現でき、マイグレーション係数、臨界距離を得るとともに、結晶粒界がクエンチングの主要なセンターであるという重要な結果を得た。
ゾルゲル試料とPLD試料とでは、同じEr濃度に対しPLD試料の蛍光寿命(発光強度もほぼ比例)がおよそ1桁大きい。その理由は、PLD試料の粒径が100nmに対しゾルゲル試料では30nmと粒径の差によるクエンチングの違いである。PLD試料でEr濃度が1.6E22/cm3の蛍光寿命は~100μs、Er濃度が1/10の1.6E21/cm3で蛍光寿命は2ms程度となる。これは粒界でのクエンチングがほぼ無視できる値である。これから高濃度Erを含むErxY2-xSiO5においても、粒径>100nmであればエネルギーマイグレーションはクエンチング主要因とはならず高強度のEr発光が得られると予想され、100μm長程度の増幅領域を持つ小型の光源または光増幅器として期待できる。

Current Status of Research Progress
Reason

24年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

24年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (15 results)

All 2012 Other

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results) Presentation (10 results) (of which Invited: 1 results) Remarks (3 results)

  • [Journal Article] Emission and optical properties of Si slot ErxY2-xSiO5 waveguides2012

    • Author(s)
      Hideo Isshiki
    • Journal Title

      SPIE Proceedings、 Nanophotonics and Micro/Nano Optics

      Volume: 8564 Pages: 856404(1-5)

    • DOI

      10.1117/12.2001322

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Suppression of scattering loss in Erbium-Yttrium Silicate crystalline waveguide fabricated by radical-assisted sputtering2012

    • Author(s)
      T. Nakajima
    • Journal Title

      9th IEEE International conference on Group IV Photonics (GFP2012) Conference proceedings

      Volume: 10.1109 Pages: pp. 243-245

    • DOI

      10.1109/GROUP4.2012.6324147

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] High Optical Gain in ErxY2-xO5 Slot Waveguides and Possibility for Compact Light Amplifiers and Optical Sources

    • Author(s)
      Tadamasa Kimura
    • Organizer
      Fifth International Conference on Optical, Optoelectronic and Photonic Materials and Applications
    • Place of Presentation
      Nara Prefectural New Public Hall, Nara, Japan
    • Invited
  • [Presentation] Metallic composition dependence on Erbium Yttrium Silicate films fabricated by radical assisted sputtering

    • Author(s)
      T. Shinagawa,
    • Organizer
      EMS 2012
    • Place of Presentation
      ラフォーレ修善寺 (静岡県伊豆市)
  • [Presentation] Cooperative upconversion in Er0.45Y1.55SiO5 crystalline waveguide

    • Author(s)
      T. Nakajima
    • Organizer
      EMS 2012
    • Place of Presentation
      ラフォーレ修善寺 (静岡県伊豆市)
  • [Presentation] Electro-optic effect of ErxY2-xSiO5 crystals measured by electric field modulation reflectance spectroscopy

    • Author(s)
      Y. Terada
    • Organizer
      EMS 2012
    • Place of Presentation
      ラフォーレ修善寺 (静岡県伊豆市)
  • [Presentation] Suppression of scattering loss in Erbium-Yttrium Silicate crystalline waveguide fabricated by radical-assisted sputtering

    • Author(s)
      Nakajima, Takayuki
    • Organizer
      Group Four Photonics 2012
    • Place of Presentation
      San Diego, CA,, USA
  • [Presentation] Er0.45Y1.55SiO5結晶導波路におけるアップコンバージョン係数の評価

    • Author(s)
      中島崇之
    • Organizer
      2012年秋季 第73回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      愛媛大学/松山大学(愛媛県松山市)
  • [Presentation] RAS法で作製したエルビウムイットリウムシリケイト薄膜の光学特性

    • Author(s)
      品川達紀
    • Organizer
      2012年秋季 第73回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      愛媛大学/松山大学(愛媛県松山市)
  • [Presentation] Fabrication of Er silicate crystalline waveguide by directed self-assembly approach using radical assisted sputtering

    • Author(s)
      T. Nakajima
    • Organizer
      SSDM 2012
    • Place of Presentation
      Kyoto International Conference Center, Kyoto, Japan
  • [Presentation] Sensitization Effect of 1.53 um Er3+-related Emission in ErxYbyY2-x-ySiO5 Crystal-line Thin Film Fabricated by Directed Self-assembly Using Layer-by-layer Deposition

    • Author(s)
      F. Jing
    • Organizer
      SSDM 2012
    • Place of Presentation
      Kyoto International Conference Center, Kyoto, Japan
  • [Presentation] Emission and optical properties of Si slot ErxY2-xSiO5 waveguides

    • Author(s)
      Hideo Isshiki
    • Organizer
      2012 Photonics Asia
    • Place of Presentation
      Beijing, , China
  • [Remarks] 木村研究発表論文等リスト

    • URL

      http://flex.ee.uec.ac.jp/~t-kimura/research/papers.html

  • [Remarks] Hideo Isshiki ホームページ

    • URL

      http://flex.ee.uec.ac.jp/~hisshiki/index.html

  • [Remarks] List of papers on rare earth doped semiconductors

    • URL

      http://flex.ee.uec.ac.jp/~t-kimura/research/rareearthref.html

URL: 

Published: 2014-07-24  

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