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2010 Fiscal Year Annual Research Report

多機能複合クラスタービームを用いた新規ナノ材料創成・加工技術基盤の開発

Research Project

Project/Area Number 22760557
Research InstitutionKyoto University

Principal Investigator

瀬木 利夫  京都大学, 工学研究科, 講師 (00402975)

Keywordsクラスター / 量子ビーム科学 / ナノプロセス / 複合ビーム
Research Abstract

多機能な複合クラスタービームの形成技術を開発し、これを用いた新規のナノ材料創成・加工技術基盤を開発することを目的として、初年度であるH22年度は反応ガスと金属材料、蒸着支援ガスと液体有機物材料等、常温常圧における物質の態(固体・液体・気体)を問わず混合した複合クラスターを生成するための複合クラスター形成装置の構築、及び多元素複合クラスターに関する情報収集を中心に研究を行った。具体的には、ノズルから真空中への高圧ガスジェット噴流を用いてガスクラスターを生成する既存のガスクラスター発生装置のノズルへの材料ガス導入部にバブリング装置を付加し、ガス材料中に液体材料を取り込ませ、両材料が混合したガスをノズルに供給するシステムを構築した。これを用いて、液体(メタノール)・気体(アルゴン)混合複合クラスターの生成を試験し、ビーム強度の測定やクラスターサイズの評価およびクラスター中に含まれる分子種の評価を行った。この結果、室温に於いてもバブリングにより過飽和状態の混合ガスを発生させノズルに供給することで、Ar-メタノール複合クラスターを生成できることを示した。さらに、Ar-水複合クラスター生成についても評価を行い、その生成の可能性を示した。また、イオンビーム技術関連の国際学会等において、クラスターの生成や輸送、及び応用に関する研究発表を行い、国内外の研究者と意見交換するとともに、複合クラスタービーム形成とその応用に関する情報収集を行った。

  • Research Products

    (8 results)

All 2011 2010

All Journal Article (5 results) (of which Peer Reviewed: 4 results) Presentation (3 results)

  • [Journal Article] Surface morphology of PMMA surfaces bombarded with size-selected gas cluster ion beams2011

    • Author(s)
      Kazuya Ichiki
    • Journal Title

      Surface and Interface Analysis

      Volume: 43(1-2) Pages: 120-122

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] High Speed Si Etching with ClF_3 Cluster Injection2010

    • Author(s)
      Toshio Seki
    • Journal Title

      AIP Conference Proceedings

      Volume: 1321 Pages: 317-320

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Energy Effects on the Sputtering Yield of Si Bombarded with Gas Cluster Ion Beams2010

    • Author(s)
      Kazuya Ichiki
    • Journal Title

      AIP Conference Proceedings

      Volume: 1321 Pages: 294-297

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Evaluation of surface damage on organic materials irradiated with Ar cluster ion beam2010

    • Author(s)
      Yasuyuki Yamamoto
    • Journal Title

      AIP Conference Proceedings

      Volume: 1321 Pages: 298-301

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] ガスクラスターイオンビームによるナノ加工技術2010

    • Author(s)
      松尾二郎
    • Journal Title

      トライボロジスト

      Volume: 55(11) Pages: 776-782

  • [Presentation] High-speed Si etching with ClF_3 neutral cluster beam2010

    • Author(s)
      瀬木利夫
    • Organizer
      20th MRS-J Symposium
    • Place of Presentation
      横浜
    • Year and Date
      2010-12-22
  • [Presentation] 複合クラスター生成技術の開発2010

    • Author(s)
      瀬木利夫
    • Organizer
      第71回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      長崎
    • Year and Date
      2010-09-16
  • [Presentation] Etching Characteristics with Ar-Cl2 Gas Mixed Cluster Ion Beam2010

    • Author(s)
      瀬木利夫
    • Organizer
      10th Workshop on Cluster Ion Beam Technology
    • Place of Presentation
      京都
    • Year and Date
      2010-06-14

URL: 

Published: 2012-07-19  

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