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2014 Fiscal Year Annual Research Report

巨大電界効果を利用した可変面積電極の提案と可変容量キャパシタへの展開

Research Project

Project/Area Number 24360119
Research InstitutionJapan Advanced Institute of Science and Technology

Principal Investigator

徳光 永輔  北陸先端科学技術大学院大学, グリーンデバイス研究センター, 教授 (10197882)

Project Period (FY) 2012-04-01 – 2015-03-31
Keywords可変容量キャパシタ / 薄膜トランジスタ / 強誘電体 / 高誘電率材料 / 酸化物半導体
Outline of Annual Research Achievements

本研究では、巨大な電界効果を誘起できる強誘電体または高誘電率材料をゲート絶縁膜に用いた薄膜トランジスタ構造において、酸化物伝導体または酸化物半導体のチャネルを用いることによって、ゲート電圧によって制御できる可変面積電極を実現し、この現象を可変容量キャパシタに応用することを目的としている。
昨年度までに、本研究で提案する素子の基礎的な原理検証と試作のための基礎的な用素技術の検討を実施した。平成26年度はこれらの結果を踏まえて、素子の高性能化と素子構造を詳細に検討し、薄膜トランジスタ型の素子試作を進めて電気的特性の評価を行った。強誘電体(Bi,La)4Ti3O12 (BLT)の原料溶液の熱特性と結晶化過程を詳細に検討し、各反応ごとに熱処理を行うステップ・バイ・ステップ・アニール法を採用することにより、BLTの配向性を制御できることを示し、リーク電流が従来法より小さく、良好な電気的特性を持つ薄膜が得られた。次にチャネルにIn-Ga-Zn-O(IGZO)を用いて素子を作製し、良好な電気的特性を得た。さらに素子構造についても検討し、ボトムコンタクト電極構造を採用することによって、高速のスイッチングが可能なことを明らかにした。また、容量ー電圧特性から、ゲート電圧によって酸化物チャネルが導通し、可変キャパシタとして働くことを確認した。次に、大きなQ値を得るためには素子の微細化が不可欠であることから、微細化に向けて溶液原料を直接インプリントして微細パターンを形成する新手法を検討した。インジウム・スズ酸化物(ITO)およびLaRuO3のゲル膜を直接インプリントすることで、100nm以下のナノパターンの形成を確認した。これらと並行して、材料の検討も行い、Bi-Nb-O(BNO)を溶液原料から形成すると、従来のスパッタと異なり、大きな比誘電率が得られることを明らかにした。

Research Progress Status

26年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

26年度が最終年度であるため、記入しない。

Causes of Carryover

26年度が最終年度であるため、記入しない。

Expenditure Plan for Carryover Budget

26年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (9 results)

All 2015 2014

All Journal Article (4 results) (of which Peer Reviewed: 4 results) Presentation (5 results)

  • [Journal Article] Relationship between Source/Drain-Contact Structures and Switching Characteristics in Oxide-Channel Ferroelectric-Gate Thin-Film Transistors2014

    • Author(s)
      Ken-ichi Haga, Yuuki Nakada, Dan Ricinschi, and Eisuke Tokumitsu
    • Journal Title

      Jpn. J. Appl. Phys

      Volume: 53 Pages: 09PA07-1-6

    • DOI

      10.7567/JJAP.53.09PA07

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Fabrication and Characterization of Ferroelectric-Gate Thin-Film Transistors with an Amorphous Oxide Semiconductor, a-In-Ga-Zn-O2014

    • Author(s)
      Ken-ichi Haga and Eisuke Tokumitsu
    • Journal Title

      Jpn. J. Appl. Phys

      Volume: 53 Pages: 111103-1-8

    • DOI

      10.7567/JJAP.53.111103

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Observation of high dielectric constant of Bi-Nb-Ox thin-film capacitors fabricated by chemical solution deposition process2014

    • Author(s)
      Masatoshi Onoue, Takaaki Miyasako, Eisuke Tokumitsu and Tatsuya Shimoda
    • Journal Title

      IEICE Electronics Express

      Volume: 11 Pages: 20140651-1-10

    • DOI

      10.1587/elex.11.20140651

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Investigation of solution-processed bismuth-niobium-oxide films2014

    • Author(s)
      Satoshi Inoue, Tomoki Ariga, Shin Matsumoto, Masatoshi Onoue, Takaaki Miyasako, Eisuke Tokumitsu, Norimichi Chinone, Yasuo Cho and Tatsuya Shimoda
    • Journal Title

      J. Appl. Phys.

      Volume: 116 Pages: 154103-1-6

    • DOI

      10.1063/1.4898323

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Crystallization Mechanism and Crystallographic Orientation Control of (Bi,La)4Ti3O12 (BLT) Films by Sol-gel technique2015

    • Author(s)
      Eisuke Tokumitsu and Ken-ichi Haga
    • Organizer
      13th European Meeting on Ferroelectricity
    • Place of Presentation
      Porto, Portugal
    • Year and Date
      2015-06-28 – 2015-07-03
  • [Presentation] Simultaneous formation of channel and source/drain regions by nano-rheology printing in ITO-based thin film transistors2015

    • Author(s)
      T. Kaneda, E. Tokumitsu, T. Miyasako, T. Shimoda
    • Organizer
      European Materials Research Society (EMRS) 2015 Spring Meeting
    • Place of Presentation
      Lille, France
    • Year and Date
      2015-05-11 – 2015-05-15
  • [Presentation] Amorphous LaRuO Nano-Patterning Using Rheology Printing Method2014

    • Author(s)
      K. Nagahara, J. Li, D. Hirose, E. Tokumitsu and T. Shimoda
    • Organizer
      International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology (NNT 2014)
    • Place of Presentation
      ANA Crown Plaza Kyoto, Kyoto
    • Year and Date
      2014-10-22 – 2014-10-24
  • [Presentation] Fabrication of Metal Oxide Thin Films and Transistors by Solution Process2014

    • Author(s)
      Eisuke Tokumitsu and Tatsuya Shimoda
    • Organizer
      2014 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices
    • Place of Presentation
      Kanazawa Bunka Hall, Kanazawa
    • Year and Date
      2014-07-01 – 2014-07-03
  • [Presentation] Novel Materials and Processing for Printed Metal Oxide Devices2014

    • Author(s)
      Jinwang Li, Phan Trong Tue, Yoshitaka Murakami, Tadaoki Mitani, Eisuke Tokumitsu & Tatsuya Shimoda
    • Organizer
      European Materials Research Society (EMRS) 2014 Spring Meeting
    • Place of Presentation
      Lille, France
    • Year and Date
      2014-05-26 – 2014-05-30

URL: 

Published: 2016-06-01  

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