• Search Research Projects
  • Search Researchers
  • How to Use
  1. Back to project page

2015 Fiscal Year Annual Research Report

プラズマCVDによる高ガスバリア膜合成プロセスの開発

Research Project

Project/Area Number 25630357
Research InstitutionKyoto University

Principal Investigator

河瀬 元明  京都大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (60231271)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 井上 元  京都大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (40336003)
Project Period (FY) 2013-04-01 – 2016-03-31
KeywordsプラズマCVD / シリカ膜 / ヘキサメチルジシロキサン / PENフィルム / ガスバリア / ガス透過セル
Outline of Annual Research Achievements

高性能ガスバリア膜の合成を目的として,ヘキサメチルジシロキサン(HMDSO,(CH3)3SiOSi(CH3)3)とO2を原料としてプラズマCVD法によりポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム上にシリカ系薄膜を作製した。また,昨年度作製したガス透過測定装置を用いて測定法の妥当性の検証とガスバリア性の評価を行った。
HMDSO分圧は0.27 Paとし,O2分圧を0~10.81 Pa,Ar分圧を0~29.73 Paとした。成膜時間は10~60分とした。プラズマ電源にはRFを用い,投入電力100 Wで平行平板電極間(間隔35 mm)にプラズマを発生させた。基板のPENフィルム(t 125 μm,Teonex,Teijin DuPont Films)を電極上に固定して製膜した。
ガス透過セル中央部に膜を挟み,供給側にO2ガスを供給した。封じた透過側に透過してきたガスを蓄積させ,四重極型質量分析計(QMS,Anelva,M-100GA-DM)で定量した。透過条件は40℃,RH = 0%で,供給側は全圧101.3 kPaまたは152.0 kPaで100% O2流通条件とし,透過側は全圧101.3 kPaまたは152.0 kPaで100% Arを封じて測定を開始した。
成膜前のPENフィルムでのO2透過量を測定し、文献データと比較することにより測定法の妥当性が確認された。
膜厚480 nmのSiOC膜のO2パーミアンスは2.27E-9 mol/(m2・d・Pa)であった。

  • Research Products

    (5 results)

All 2016 2015

All Presentation (5 results) (of which Int'l Joint Research: 2 results)

  • [Presentation] プラズマCVD 法で製膜したシリカ膜の膜応力2016

    • Author(s)
      脇坂知樹・竹田依加・河瀬元明
    • Organizer
      第18回化学工学会学生発表会(福岡大会)
    • Place of Presentation
      福岡大学 七隈キャンパス
    • Year and Date
      2016-03-05 – 2016-03-05
  • [Presentation] Measurement of gas permeability of silica-based gas barrier thin films prepared by plasma chemical vapor deposition2015

    • Author(s)
      Hiroyuki Ohtsu, Erika Takeda, Motoaki Kawase
    • Organizer
      The 28th International Symposium on Chemical Engineering (ISChE 2015)
    • Place of Presentation
      Ramada Plaza Jeju, Korea
    • Year and Date
      2015-12-04 – 2015-12-06
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Effects of hydrogen addition on the chemical structure of silica film prepared by plasma CVD2015

    • Author(s)
      Erika Takeda, Toshiki Deguchi, Hiroyuki Otsu and Motoaki Kawase
    • Organizer
      Asian Pacific Confederation of Chemical Engineering 2015
    • Place of Presentation
      The Melbourne Convention and Exhibition Centre (MCEC), Melbourne, Australia
    • Year and Date
      2015-09-27 – 2015-10-01
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] プラズマCVD法で作製したシリカ膜の化学構造と膜特性2015

    • Author(s)
      竹田依加 ・出口利樹 ・大津啓幸 ・河瀬元明
    • Organizer
      化学工学会 第47回秋季大会
    • Place of Presentation
      北海道大学 札幌キャンパス
    • Year and Date
      2015-09-09 – 2015-09-11
  • [Presentation] プラズマCVD法を用いたシリカ系ガスバリア膜の作製とガス透過速度の測定2015

    • Author(s)
      大津啓幸・竹田依加・河瀬元明
    • Organizer
      化学工学会 第47回秋季大会
    • Place of Presentation
      北海道大学 札幌キャンパス
    • Year and Date
      2015-09-09 – 2015-09-11

URL: 

Published: 2017-01-06  

Information User Guide FAQ News Terms of Use Attribution of KAKENHI

Powered by NII kakenhi