Growth of GaN thin film and fabrication of vertical light emitting diode using CrN nano-crystalline buffer layer
Project/Area Number |
19560008
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Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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Allocation Type | Single-year Grants |
Section | 一般 |
Research Field |
Applied materials science/Crystal engineering
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Research Institution | Tohoku University |
Principal Investigator |
HANADA Takashi (2008) Tohoku University, 金属材料研究所, 助教 (80211481)
ちょ 明煥 (2007) Tohoku University, 金属材料研究所, 准教授 (00361171)
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
HANADA Takashi 東北大学, 金属材料研究所, 助教 (80211481)
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Project Period (FY) |
2007 – 2008
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Project Status |
Completed (Fiscal Year 2008)
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Budget Amount *help |
¥4,420,000 (Direct Cost: ¥3,400,000、Indirect Cost: ¥1,020,000)
Fiscal Year 2008: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000)
Fiscal Year 2007: ¥2,990,000 (Direct Cost: ¥2,300,000、Indirect Cost: ¥690,000)
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Keywords | 薄膜成長 / 光素子 / 窒化物半導体 |
Research Abstract |
サファイヤc面基板上に高品質GaNを成長するためCrNバッファ層を導入した。CrN層は過塩素酸ベースの混合溶液で選択的に化学エッチングされ、GaN自立膜を基板からケミカルリフトオフ(CLO)できた。CLOプロセスによるダメージの導入はなく、縦型GaN-LEDを作製し電流注入発光を観測した。CLOにより複数基板からのLED剥離は一括処理でき、基板は再利用できるため、従来のGaN-LED作製法に比べ大幅なコスト低減が可能となる。
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Report
(3 results)
Research Products
(6 results)
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[Presentation] Crystallo -graphic Investigation of Nitride C- Sapphire Substrate by Grazing Incidence X-ray Diffraction and Transmission Electron Microscopy2008
Author(s)
H. J. Lee, J. S. Ha, S. K. Hong, S. W. Lee, H. J. Lee, S. H. Lee, T. Minegishi, T. Hanada, M. W. Cho, and T. Yao
Organizer
The International Conference on the Textures of Materials
Place of Presentation
Pittsburgh, USA
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