あらゆる真空装置をゲッターポンプに変える小型製膜装置の開発と膜内排気機構の解明

Research Project

Project/Area Number	21K04891
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 29020:Thin film/surface and interfacial physical properties-related
Research Institution	High Energy Accelerator Research Organization
Principal Investigator	谷本育律大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構, 加速器研究施設, 准教授 (60311130)
Project Period (FY)	2021-04-01 – 2024-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2021)
Budget Amount *help	¥4,160,000 (Direct Cost: ¥3,200,000、Indirect Cost: ¥960,000) Fiscal Year 2023: ¥780,000 (Direct Cost: ¥600,000、Indirect Cost: ¥180,000) Fiscal Year 2022: ¥1,820,000 (Direct Cost: ¥1,400,000、Indirect Cost: ¥420,000) Fiscal Year 2021: ¥1,560,000 (Direct Cost: ¥1,200,000、Indirect Cost: ¥360,000)
Keywords	NEGコーティング / マグネトロンスパッタ / 超高真空
Outline of Research at the Start	本研究はあらゆる真空装置の到達圧力を低減させる画期的な真空技術の確立を目標としている。本来ガス放出源である真空容器内壁を逆に真空ポンプとして機能させることで到達圧力の究極的な低減を図る。現在，粒子加速器の分野ではこの考えに基づいた非蒸発型ゲッター（NEG）コーティングが普及しているが，元来直線型ビームダクト用に開発されたものであり，現在の手法では多様な形状の真空装置に応用することはできない。そこで，本研究において，一般的な真空装置に応用が可能な小型NEG製膜装置を実現させるための研究開発を行う。この成果により，真空を利用する多様な産業や研究の分野に革新をもたらすことが期待される。