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1995 Fiscal Year Annual Research Report

フリーラジカルの科学の総合的研究

Research Project

Project/Area Number 05237103
Research InstitutionThe Graduate University for Advanced Studies

Principal Investigator

廣田 榮治  総合研究大学院大学, 本部, 学長 (30011464)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 伊藤 光男  分子科学研究所, 所長 (20013469)
板谷 良平  新居浜工業高等専門学校, 校長 (90025833)
後藤 俊夫  名古屋大学, 工学部, 教授 (50023255)
志田 忠正  京都大学, 理学部, 教授 (60025484)
旗野 嘉彦  東京工業大学, 理学部, 教授 (90016121)
Keywordsフリーラジカル / プラズマ / 硝酸塩ラジカル / ホルミルラジカル / シリレン
Research Abstract

総括班は、本重点研究班全体の活動の企画、連絡、調整等を行うため、総括班会議を平成7年6月8日(第1回)、平成8年1月5日(第2回)に開催した。活動方針の原案は班長会議(平成7年9月26日開催)で準備した。また班員への連絡、通知等のために「フリーラジカル・レターズ」を3回[No.7-1(平成7年6月26日)No.7-2(平成7年10月23日)、No.7-3(平成8年1月8日)]発行した。平成7年度も、前年度に引続き、できるだけ会合の回数を少なくし、班員全員が研究に専念することを基本方針とした。最終年度にあたるので、平成8年1月5-7日、総合研究大学院本部(神奈川県葉山町)において研究成果報告会を開催した。フリーラジカルの天文学、大気化学等における役割を明らかにするため、研究会「フリーラジカルと宇宙・地球環境」を平成7年6月8-9日に、鵜の岬において開催した。なお総括班では、今後の活動として、研究成果とりまとめのための科学研究費申請、学術図書「フリーラジカルの科学」の刊行立案、「大学と科学」公開シンポジウムの申請等を行うことを決定し、その通りに実行した。
廣田は(1)DCOラジカル2_3バンドの観測解析とホルミルラジカルの分子構造、分子内非調和ポテンシャルの決定、(2)近赤外領域(7600cm^<-1>)に現れるNo_3の振電バンドの観測解析と帰属、振電相互作用の解明、可視、赤外二重共鳴分光システムの開発、(2)SiH_25μmのバンド観測解析を行った。

  • Research Products

    (6 results)

All Other

All Publications (6 results)

  • [Publications] E.Hirota, M.Kakimoto: "Doppler-limited dye laser excitation spectroscopy of the PH_2 radical: the A^2A_1(000)-X^2(000)band" Journal of Molecular Structure. 352/353. 379-387 (1995)

  • [Publications] T.Odagiri et al.: "Electron Energy-Loss Study of Superexcited Hydrogen Molecules with the Coincid. Detect. of the Neut. Dissoci." Journal of Physics B: At. Mol. Opt. Phys.28. L465-L470 (1995)

  • [Publications] T.Momose et al.: "Infrared spectroscopic studies on photolysis of methyl iodide and its clusters in solid parahydrogen" Journal of Chemical Physics. 103. 1400-1405 (1995)

  • [Publications] A.Masaki et al.: "Rate Constants for Reactions of Substituted Methyl Radicals (CH_2OCH_3,CH_2NH_3,CH_2I, and CH_2CN)with O_2" Journal of Physical Chemistry. 99. 13126-13131 (1995)

  • [Publications] K.Miyata et al.: "CF_x(x=1-3) radical measurements in ECR etching plasma employing C_4F_3 gas by infrared diode laser abs. spect." Japanese Journal of Applied Physics. 34. L444-L447 (1995)

  • [Publications] T.Akasaka,I.Shimizu: "In situ real time studies of the formation of polycryst. silicon films on glass grown by a layer-by-layer tech." Applied Physics Letters. 66. 3441-3443 (1995)

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Published: 1997-02-26   Modified: 2016-04-21  

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