1994 Fiscal Year Annual Research Report
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05245107
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| Research Institution | Kanazawa Institute of Technology |
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Principal Investigator |
西川 治 金沢工業大学, 工学部, 教授 (10108235)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
森川 浩志 名古屋工業大学, 工学部, 助教授 (90024314)
八百 隆文 広島大学, 工学部, 教授 (60230182)
大島 忠平 早稲田大学, 理工学部, 教授 (10212333)
山本 雅彦 大阪大学, 工学部, 教授 (30029160)
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| Keywords | 電界放射顕微鏡(FEM) / 電界イオン顕微鏡(FIM) / 走査型トンネル顕微鏡(STM) / アトムプローブ(A-P) / イメイジングプレイト(IP) / 原子間力顕微鏡(AFM) / 原子移動 / 走査型アトムプローブ(SAP) |
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| Research Abstract |
A02班の研究目的は、電界放射顕微鏡(FEM)、電界イオン顕微鏡(FIM)、アトムプローブ(A-P)を用いて、探針先端の原子の配列・電子状態を解明すると共に、走査型トンネル顕微鏡(STM)による表面原子の移動のメカニズムを明らかにする事にある。この目的に沿って研究分担者は以下の研究を進めた。
(1)西川治(金沢工大)は、イメイジングプレイト(IP)により、FEM像とFIM像を従来の写真フィルムより格段と幅広いダイナミックレンジで記録できる装置を完成させ、鮮明な像を得ると共に、各表面原子の直上でのトンネル確率を0.1A以下の細かい間隔で調べる研究を実現している。また、コンピューターで、トンネル確率を反映したFIM像をシュミレイトできる手法を開発し、IPで得られた像との比較検討も進めている。更に、表面を原子レベルで組成分析できる走査型A-P(SAP)の開発も進めており、既存のSTMにSAPの機能を組み込んだ装置によりSAP実現の可能性を確認すると共に、電界放射特性について興味ある結果を得た。
(2)山本雅彦(阪大)は、Ni-Mo-Al合金のFIM像を調べ、各種の規則相が異なるコントラストで結合する事を明らかにした。更に、IPにより記録されたNi_4MoのFIMを定量的に解析し、ガス原子と表面原子との間のトンネル確率の原子種による違いを調べている。
(3)大島忠平(早大)は、電界放射電子のエネルギーを1meVの高分解能で分析できる電子分光装置の開発を進めており、初期の立ち上げが終了している。装置は期待通りの分解能を示し、最終的には、0.8meVの高分解能が期待されている。
(4)八百隆文(広大)は、原子移動の研究を分担している。そこで、八百はSi(111)7×7面上にAlCl_3分子を吸着させ、STMで観察し、分子が表面上の特定位置に解離吸着する事を見出だしている。現在、探針先端で表面上の任意の原子を脱離させる実験を進めている。
(5)森川浩志(名工大)は、金属表面上に吸着したフタロシアリニン分子の安定性を調べると共に、分子を通してのトンネル特性を明らかにするためにFEM内に高分解能エネルギー分析器を組み込む準備を進めている。
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[Publications] 0.Nishikawa: "Field Emission and Field Ion Microscopies with Imaging Plates" Surf.Sci.323. 288-294 (1995)
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[Publications] 0.Nishikawa: "Development of a Scanning Atom Probe" to be published in J.Vac.Sci.TechnolB. 13. (1995)
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[Publications] M.Yamamoto: "An FIM/TEM Study of Ordered Precipitates in a Ni-Mo-Al Alloy" Appl.Surf.Sci.76/77. 184-190 (1994)
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[Publications] C.Oshima: "High Resolution Fild Emission Spectroscope" J.Vac.Soc.Jpn.37. 772-775 (1994)
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[Publications] T.Takiguchi: "Atomic-Scale Modification of the AlCl_3-Adsorbed Si(111)-7X7 Surface." Appl.Surf.Sci.82/83. 428-433 (1994)
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[Publications] H.Morikawa: "A Field Ion Microscope Study on Vapor Deposition of Copper on Tungsten" Thin Solid films. 254. 103-110 (1995)
