光および活性化学種による反応制御とその反応工学の構築

1996 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 08305033
• Section: 総合
• Research Institution: The University of Tokyo
• Principal Investigator: 幸田 清一郎 東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (10011107)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 奥山 喜久夫 広島大学, 工学部, 教授 (00101197) ; 岡崎 守男 京都大学, 工学部, 教授 (90025916) ; 中野 勝之 福岡大学, 工学部, 教授 (50037876) ; 菅原 拓男 秋田大学, 鉱山学部, 教授 (10006679) ; 武内 一夫 理化学研究所, 主任研究員 (10142639)
• Keywords: 光反応制御 / 活性化学種 / レーザー反応 / 超微粒子 / 遠紫外線 / 光吸収速度 / 光触媒 / イオン誘発核生成

Research Abstract

1.本研究は、通常光源、レーザー光などの光化学反応や、活性化学種を利用した反応の制御と反応場の構築に関する基礎と、光や活性化学種を制御する装置設計に必要な工学解析を充実させ、将来的に光や活性化学種を用いた新規なプロセスを創成していく上での体系化を行うことを目的として組織した。本年度は以下の4項目を重点項目とし、分担者それぞれが独自の立場で研究を推進し、適当な情報交換を行った。
2.研究の項目は以下の通りである。(1)光と光量子による反応制御と素過程(2)光反応工学基礎(3)ラジカル、イオンによる反応制御と素過程(4)活性化学種反応工学基礎。個々の成果として、(l)では、レーザー合成反応工学の基礎(幸田)、レーザーを用いたシリコン同位体分離(武内)、レーザーによる超微粒子活性化機構の解明とその薄膜創製への応用(北本)に関して、レーザー光の特徴を生かす過程の解明が進んだ。(2)では、遠紫外線照射による超純水循環利用プロセスシステムの基礎(菅原)、不均一反応系における光吸収速度の推算・評価方法(横田)、難分解性物質を含む排水の光触媒による処理プロセス及び薄膜状半導体光触媒(中野)、紫外線照射による廃フロンの再資源化(西海)に関して、見るべき成果が上げられた。(3)では、流体中のパルス放電による各種ラジカルの生成とその反応過程(佐藤)、負イオンによる大気汚染物質除去機構の解明(岡崎)、CVD製膜装置内での酸素ラジカル反応による微粒子発生(足立)、イオン誘発核生成による大気汚染ガスの微粒子転換(奥山)に関して、実用化をも視野においた基礎過程の検討が進んだ。さらに(4)では、高効率ラジカル反応装置の設計手法と開発(定方)に関する新規な展開がはかられた。これらの成果は中間報告としてまとめ、研究の一層の深化と、情報交換に役立てられた。2年度へ向けた個別研究の展開と体系化を試みつつある。

Research Products

• [Publications] Takami,A.(高見昭憲): "Size reduction of silver particles in aqueous solution by laser irradiation" Jpn.J.Appl.Phys.35. L781-L783 (1996)
• [Publications] Okamura,H.(岡村秀樹): "Collisional effects in the IR multiphoton absorpiton and dissociation in Si2F6" J.Photochem.Photobiol.A:Chemistry. 95. 203-207 (1996)
• [Publications] 白石文秀(Shiraishi,F.): "透明チタニア薄膜を被覆した光触媒反応器の反応特性およびCELSSへの応用" CELSS学会誌. 9. 19-25 (1996)
• [Publications] Adachi,M.(足立元明): "Morphology control of films formed by atmospheric pressure chemical vapor deposition using tetraethylorthosilicate/ozone system" Jpn.J.Appl.Phys.35. 4438-4443 (1996)
• [Publications] Tamon H.(田門肇): "Influence of oxygen and water vapor on removal of sulfur compounds by selective electron attachment" AIChE J.42. 1481-1486 (1996)