UV/光電子法による微量ガス状および粒子状汚染物質の同時除去システムの開発

1997 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 09555229
• Research Institution: Kanazawa University
• Principal Investigator: 江見 準 金沢大学, 工学部, 教授 (90025966)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 島田 学 広島大学, 工学部, 助教授 (70178953) ; 足立 元明 大阪府立大学, 先端研究所, 講師 (40100177) ; 奥山 喜久夫 広島大学, 工学部, 教授 (00101197) ; 大谷 吉生 金沢大学, 工学部, 助教授 (10152175)
• Keywords: UV / 光電子法 / イオン誘発核生成 / 同時除去 / 揮発性有機化合物(VOC)

Research Abstract

本研究では,UV/光電子法を利用して,常圧下から減圧下に適用できる,ガス中の炭化水素汚染ガスおよび粒子状汚染物質の新しい同時除去システムを開発することを目的とした。本年度は,本法による除去装置を試作して,主に大気圧下におけるガス状および粒子状汚染物質の除去特性について調べた。その結果,以下のような知見を得ることができた。(1)様々な有機系ガスをUV光(波長254nm)照射域に通して粒子生成の有無を調べた結果,空気雰囲気において芳香族のベンゼン,トルエン,キシレン,および有機ケイ素化合物であるシロキサンについて粒子の生成を確認し,滞留時間を変化させることにより,それぞれのガスから生成する粒子の粒径分布および個数濃度を制御することができる,(2)試作した光電子発生装置に粒子生成の確認されたガスを通した場合,粒子生成が確認されなかった他のガスに比べて,出口のガス濃度が減少の割合が大きくなることから,粒子が生成することにより高効率で安定したガスの除去が行うことができる,(3)除去装置に無帯電の標準PSL粒子を導入して粒子の帯電量を調べたところ,すべての粒子が負に帯電しており,効率的に荷電が行われている。以上の結果から,UV/光電子法を用いた本除去装置は,大気圧下においてガス・粒子の同時除去を高効率で行えることが示された。

Research Products

• [Publications] K.Okuyama, T.Fujimoto, T.Hayashi, and M.Adachi: "Gas-Phase Nucleation in the Tetraethylorthosilicate(TEOS)/O_3APCVD Process" AIChE Journal. Vol.43. 2688-2697
• [Publications] M.Adachi, T.Hayashi, T.Fujimoto and K.Okuyama: "Film Formation by a New CVD Process using Ionization of TEOS" Proceedings of the 14th International Conference on Chemical Vapor Deposition and EUROCVD-11 ECS Proceedings. Vol.97-25. 1160-1166 (1997)
• [Publications] M.Adachi, T.Hayashi, T.Fujimoto and K. Okuyama: "A New CVD Film Formation Process using Ionization of TEOS" 1997 IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing Conference Proceedings. 103-105 (1997)