2002 Fiscal Year Annual Research Report

超機能化グローバル・インターフェース・インテグレーション研究

Research Project

Project/Area Number	12058101
Research Institution	The University of Tokyo
Principal Investigator	堀池靖浩東京大学, 大学院・工学研究科, 教授 (20209274)
Co-Investigator(Kenkyū-buntansha)	角南英夫広島大学, ナノデバイス・システム研究センター, 教授 (10311804) 霜垣幸浩東京大学, 大学院・工学系研究科, 助教授 (60192613) 財満鎭明名古屋大学, 先端技術共同研究センター, 教授 (70158947) 岩井洋東京工業大学, フロンティア創造共同研究センター, 教授 (40313358) 益一哉東京工業大学, 精密工学研究所, 教授 (20157192)
Keywords	インテグレーション / 集積回路 / シリコン / 超機能化 / システム / 微細加工
Research Abstract	世界に先んじて誕生した携帯端末を基盤とする我が国のIT (Information Technology)文明を一層革新するためには、入力は単純で出力は超機能化された超高速・超低消費電力ヒューマン・インターフェース・デバイスの創製が不可欠である。本研究の目的は、その実現のため、異種材料・基板に内蔵された新機能を低温・高品質化プロセスにより複合・融合化させるグローバルインテグレーション技術の確立することである。具体的には、高・強誘電体/磁性体/セラミック/有機物材料開発、インターフェース(界面)物性の原子レベルの制御を基にしたこれら材料の融合・複合化技術と新プラズマ反応や常温接合などの新プロセス技術、超高津多層配線技術、超高効率放熱技術、さらにこれらの技術を駆使した新トランジスタ/メモリや3次元画像/ゴミュニケーション/ヘルスケア等のチップを研究する。平成13年度から計画研究ならびに公募研究で本格的研究をスタートした。公募研究は平成13年度25件、平成14年度20件である。平成14年8月8・9日に計画研究ならびに公募研究のすべての研究者が集まった全体会議を開催し、それぞれの研究の進捗状況について発表議論した。平成15年3月1・2日には本年度の成果発表研究会を開催した。3月28日には、応用物理学会にて成果の一部を含んだシンポジウムを開催した。研究計画に従った研究が進められ、論文、特許が生まれている。さらに個々の研究者間の共同研究を積極的に推進し、10を越える共同研究が推進され論文の発表も行われている。専用webサイト(http://micro.mm.t.u-tokyo.ac.jo/global/)を立ち上げ、成果の一部を広く公開している。研究会情報、研究会資料、新聞発表資料などを公開している。着実に研究は進展し、最終年度の研究を遂行することができる。最終年度には、「モノ」をつくりあげ、デモンストレーションを含めた公開シンポジウムを開催する予定である。

Research Products

(6 results)

All Other

All Publications (6 results)

[Publications] A.Oki, M.Takai, H.Ogawa, Y.Takamura, T.Fukasawa, J.Kikuchi, Y.Ito, T.Ichiki, Y.Horiike: "Healthcare Chip Checking Healthcare Condition from Analysis of Trace Blood Collected by Painless Needle"Jpn. J. Appl. Phys. (to be published).
[Publications] A.Oki, H.Ogawa, Y.Takamura, Y.Horiike: "Biochip Which Examines Hepatic Function by Employing Colorimetric Method"Jpn. J. Appl. Phys.. 42(3B). L342-L345 (2003)
[Publications] Y.Takamura, H.Onoda, H.Inokuchi, S.Adachi, A.Oki, Y.Horiike: "Low-voltage electroosmosis pump for stand-alone microfluidics devices"Electrophoresis. 24. 185-192 (2003)
[Publications] M.Yanagisawa, S.Iida, Y.Horiike: "Numerically Controlled Dry Etching Technology for Flattening of Si Wafer which Employs SF_6/H_2 Downstream Plasma"Jpn. J. Appl. Phys.. 41. 2791-2795 (2002)
[Publications] H.Yoshiki, A.Oki, H.Ogawa, Y.Horiike: "Generation of a capacitively coupled microplasma and its application"J. Vac. Sci. Technol.. A20(1). 24-29 (2002)
[Publications] 堀池靖浩, 小川洋輝: "はじめての半導体洗浄技術"工業調査会. 250 (2002)

2002 Fiscal Year Annual Research Report

超機能化グローバル・インターフェース・インテグレーション研究

Principal Investigator

堀池 靖浩 東京大学, 大学院・工学研究科, 教授 (20209274)

Research Products

[Publications] A.Oki, M.Takai, H.Ogawa, Y.Takamura, T.Fukasawa, J.Kikuchi, Y.Ito, T.Ichiki, Y.Horiike: "Healthcare Chip Checking Healthcare Condition from Analysis of Trace Blood Collected by Painless Needle"Jpn. J. Appl. Phys. (to be published).

[Publications] A.Oki, H.Ogawa, Y.Takamura, Y.Horiike: "Biochip Which Examines Hepatic Function by Employing Colorimetric Method"Jpn. J. Appl. Phys.. 42(3B). L342-L345 (2003)

[Publications] Y.Takamura, H.Onoda, H.Inokuchi, S.Adachi, A.Oki, Y.Horiike: "Low-voltage electroosmosis pump for stand-alone microfluidics devices"Electrophoresis. 24. 185-192 (2003)

[Publications] M.Yanagisawa, S.Iida, Y.Horiike: "Numerically Controlled Dry Etching Technology for Flattening of Si Wafer which Employs SF_6/H_2 Downstream Plasma"Jpn. J. Appl. Phys.. 41. 2791-2795 (2002)

[Publications] H.Yoshiki, A.Oki, H.Ogawa, Y.Horiike: "Generation of a capacitively coupled microplasma and its application"J. Vac. Sci. Technol.. A20(1). 24-29 (2002)

[Publications] 堀池靖浩, 小川洋輝: "はじめての半導体洗浄技術"工業調査会. 250 (2002)

堀池靖浩東京大学, 大学院・工学研究科, 教授 (20209274)