2003 Fiscal Year Annual Research Report
超機能化グローバル・インターフェース・インテグレーション研究
Project/Area Number |
12058101
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Research Institution | National Institute for Materials Science |
Principal Investigator |
堀池 靖浩 独立行政法人物質・材料研究機構, 生体材料研究センター, フェロー (20209274)
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
角南 英夫 広島大学, ナノデバイス・システム研究センター, 教授 (10311804)
霜垣 幸浩 東京大学, 大学院・工学系研究科, 助教授 (60192613)
財満 鎭明 名古屋大学, 先端技術共同研究センター, 教授 (70158947)
岩井 洋 東京工業大学, フロンティア創造共同研究センター, 教授 (40313358)
益 一哉 東京工業大学, 精密工学研究所, 教授 (20157192)
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Keywords | インテグレーション / 集積回路 / シリコン / 超機能化 / システム / 微細加工 |
Research Abstract |
世界に先んじて誕生した携帯端末を基盤とする我が国のIT (Information Technology)文明を一層革新するためには、入力は単純で出力は超機能化された超高速・超低消費電力ヒューマン・インターフェース・デバイスの創製が不可欠である。本研究の目的は、その実現のため、異種材料・基板に内蔵された新機能を低温・高品質化プロセスにより複合・融合化させるグローバルインテグレーション技術の確立することである。具体的には、高・強誘電体/磁性体/セラミック/有機物材料開発、インターフェース(界面)物性の原子レベルの制御を基にしたこれら材料の融合・複合化技術と新プラズマ反応や常温接合などの新プロセス技術、超高速多層配線技術、超高効率放熱技術、さらにこれらの技術を駆使した新トランジスタ/メモリや3次元画像/コミュニケーション/ヘルスケア等のチップを研究する。 平成13年度から計画研究ならびに公募研究で本格的研究をスタートした。公募研究は平成13年度25件、平成14・15年度20件である。平成15年7月31日・8月1日に計画研究ならびに公募研究のすべての研究者が集まった全体会議を開催し、それぞれの研究の進捗状況について発表議論した。平成16年3月1・2日には最終報告会を開催した。本研究班以外の招待講演3件、口頭発表18件の講演の他に、参加研究者全員が3年間の成果を展示ならびにポスタで公開した。参加者数は210名に及んだ。研究成果については専用webサイトを立ち上げ、成果の一部を広く公開している。研究会情報、研究会資料、新聞発表資料などを公開している。平成16年度には成果を500〜600頁の成果報告書を準備している。 Webは以下のとおりである。http://micro.mm.t.u-tokoyo.ac.jo/global/およびhttp://masu-www.pi.titech.ac.jp/〜global/index.html)。
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Research Products
(12 results)
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[Publications] N.Kaji, Y.Tezuka, Y.Takamura, M.Ueda, T.Nishimoto, H.Nakanishi, Y.Horiike, Y.Baba: "Fast Separation of Long DNA Molecules by Nanopillar Chips under a Direct Current Electric Field"Anal.Chem.. 76(1). 15-22 (2004)
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[Publications] A.Oki, H.Ogawa, Y.Takamura, Y.Horiike: "Biochip Which Examines Hepatic Function by Employing Colorimetric Method"Jpn.J.Appl.Phys.. 42(3B). L342-L345 (2003)
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[Publications] Y.Takamura, H.Onoda, H.Inokuchi, S.Adachi, A.Oki, Y.Horiike: "Low-voltage electroosmosis pump for stand-alone microfluidics devices"Electrophoresis. 24. 185-192 (2003)
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[Publications] M.Ueda, K.Taniguchi, Y.Takamura, Y.Horiike, Y.Baba: "Fluorescence Emission Control of Long Molecules Adsorbed on Microelectrode Surface by External Voltage"Jpn.J.Appl.Phys.. 42. L788-L790 (2003)
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[Publications] K.Taniguchi, T.Fukasawa, H.Yoshiki, Y.Horiike: "Generation of Integrated Atomospheric-Pressure Microplasma"Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 6584-6589 (2003)
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[Publications] T.Ichiki, R.Taura, Y.Horiike: "Localized and ultrahigh-rate etching of silicon wafers using atmospheric-pressure microplasma jets"J.Appl.Phys.. 95(1). 35-39 (2003)
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[Publications] T.Ichiki, Y.Sugiyama, T.Ujiie, Y.Horiike: "Deep dry etching of borosilicate glass using fluorine-based high-density plasmas for microelectrochemical system fabrication"J.Vac.Sci.Tech.B. 21(5). 2188-2192 (2003)
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[Publications] T.Fukasawa, Y.Horiike: "Deep Dry Etching of Quartz Plate Over 100 μm in Depth Employing Ultra-Thick Photoresist (SU-8)"Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 3702-3706 (2003)
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[Publications] A.Oki, M.Takai, H.Ogawa, Y.Takamura, T.Fukasawa, J.Kikuchi, Y.Ito, T.Ichiki, Y.Horiike: "Healthcare Chip for Checking Health Condition from Analysis of Trace Blood Collected by Painless Needle"Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 3722-3727 (2003)
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[Publications] T.Fukasawa, Y.Horiike: "Anisotropic Etching of SiO_2 Film and Quartz Plate Employing Anhydrous HF"Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 4009-4015 (2003)
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[Publications] T.Fukasawa, T.Hayashi, Y.Horiike: "Conelike Defect in Deep Quartz Etching Employing Neutral Loop Discharge"Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 6691-6697 (2003)
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[Publications] 堀池靖浩, 片岡一則 共編: "バイオナノテクノロジー"オーム社. 224 (2004)