2001 Fiscal Year Annual Research Report
酸化物透明導電性薄膜への層状構造および結晶核生成不純物導入の効果に関する研究
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12650317
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| Research Institution | The University of Tokushima |
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Principal Investigator |
富永 喜久雄 徳島大学, 工学部, 助教授 (10035660)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
中林 一朗 徳島大学, 工学部, 教授 (70035624)
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| Keywords | ZnO : Al / transparent film / TCR film / Transparent electrode / sputtering / sputtered film / amorphous conductive film |
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| Research Abstract |
13年度,ZnO-In_2O_3系の膜に不純物ドープについて検討した。In_2O_3のなかにZnOの組成を増していくと,In2O_3の相からアモルファス相があらわれ,ついでホモロガス相(結晶相),ウルツアイト相(ZnO結晶)があらわれる.これはAlの添加量にあまり依存しなかった.キャリア移動度への影響はAlの添加の有無にはあまり変化しなかった.しかし,キャリア密度はアモルファス相でキャリア密度が増大するが,ホモロガス相では低下することがわかった.この傾向はアモルファス相でZnの割合が多い領域で顕著であった.アモルファス相ではホモロガス相とは異なりZnとInの相関が無いためZn位置をAlが置換するのに制限が小さくなることで,Alがドナーとして働くことがわかった.ITOターゲット(SnO_210_<wt>%)とZnOターゲットのスパッタによりSnのドープを行ったが,これによるキャリア密度の増加は認められなかった.これに関しては10wt%が多すぎるレベルであるかも知れない.
2次元成長を促進するようなZnO : Al成長時における不純物添加効果についても引き続いて検討した.ZnO : AlとZnO層を分離した形でCr, Mn, Coの不純物を添加してみたが,いずれもキャリア密度の低下を引き起こし,結晶粒成長促進は同時スパッタほどなかった.12年度の同時スパッタの方が影響が大きいことがわかった.
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Research Products
(6 results)
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[Publications] Kikuo Tominaga, Ichiro Nakabayashi et al.: "Amorphous ZnO-In_2O_3 transparent conductive films by simultaneous sputtering method of ZnO and In_2O_3 targets"Vacuum. (to be published). 5 (2002)
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[Publications] Kikuo Tominaga, Ichiro Nakabayashi et al.: "Film properties of ZnO : Al films deposited by co-sputtering of ZnO : Al and contaminated Zn target with Co, Mn and Cr"Vacuum. (to be published). 5 (2002)
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[Publications] Kikuo Tominaga, Ichiro Nakabayashi et al.: "Effect of insertion of thin ZnO layer in transparent conductive ZnO : Al film"Thin Solid Films. 386. 267-270 (2001)
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[Publications] Tomoko Ushiro, K.Tominaga, I.Nakabayashi et al.: "Structural Variation of thin films deposited from Zn_3In_2O_6 target by rf-sputtering"Material Research Bulletin. 36. 1075-1082 (2001)
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[Publications] Toshihiro Moriga, K.Tominaga, I.Nakabayasi et al.: "Crystallization Process of Transparent Conductive Oxides Z_<nk>I_<n2>O_<R+3>"J. Synchrotoron Radiation. 8. 785-787 (2001)
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[Publications] Kikuo Tominaga, Ichiro Nakabayashi et al.: "Conductive transparent films deposited by simultaneous sputtering of zinc-oxide and indium-oxide targets"Vacuum. 59. 546-552 (2000)
