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2003 Fiscal Year Annual Research Report

低誘電率・低誘電正接を有する次世代感光性有機層間絶縁膜の開発

Research Project

Project/Area Number 14350484
Research InstitutionTokyo Institute of Technology

Principal Investigator

上田 充  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (20007199)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 芝崎 祐二  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助手 (90323790)
Keywords感光性ポリマー / 耐熱性 / 低誘電性 / 低誘電損失 / 感光性ポリベンズオキサゾール / 感光性ポリ(ナフタレン) / アルカリ現象 / 酸発生剤
Research Abstract

1)感光性ポリ(ナフタレン)の開発では,ポリ(2,6-ジヒドロキシナフタレン)(PHN),架橋剤,光酸発生剤との組み合わせによるアルカリ現像可能なネガ型低誘電性,耐熟感光性ポリマーの検討を行い,誘電率,2.8,感度(D_<0.5>)およびコントラスト(γ_<0.5>)はそれぞれ8.3mJ/cm^2および11の非常に高感度で低誘電の感光性ポリマーを開発できた。さらに,PHNの吸湿率(2%)を1%以下の要求性能を得るために,30%部分保護PHNを合成し,新規な架橋剤,光酸発生剤との組み合わせによるアルカリ現像可能なポジ型低誘電性,耐熱感光性ポリマーの検討を行い,誘電率2.9,吸湿率0-6%,感度およびコントラストはそれぞれ19.4mJ/cm^2および7.5の高感度,低誘電性感光性ポリマーを開発できた。
2)感光性ポリ(フェニレンエーテル)の開発では,酸化カップリング重合によりポリ[2,6-ジ-(3-メチル-2-ブテニルフェノール)]/2,6-ジメチルフェノール)の共重合体を合成し,酸発生剤との組み合わせによる有機溶媒現像,ネガ型低誘電性,耐熱感光性ポリマーの検討を行い,誘電率2.6,誘電損失0.003-0.004(10GHz),感度(D_<0.5>)およびコントラスト(γ_<0.5>)はそれぞれ35mJ/cm^2および1.6の高感度で低誘電の感光性ポリマーを開発した。さらに,得られたポリ(フェニレンエーテル)のガラス転移温度(Tg)は260℃で,ポリ(2,6-ジメチルフェノール)のTg210℃から大幅な改善がなされた。さらに,架橋構造を導入したのでTg以上でも機械的強度を保ち,高温での使用も可能であった。
3)感光性ポリ(ベンズオキサゾール)(PBO)の開発では,イソフタルアルデヒドとビスアミノフェノールから新規なPBO前駆体,ポリ(ヒドロキシアゾメチン)の合成を行い,これにジアゾナフトキノンを加えたレジストから,感度60mJ/cm^2,コントラスト1.7,解像度10μmを有するアルカリ現像可能なポジ型低誘電性,耐熱感光性PBOを開発した。この方法は従来法に比べて簡便で,しかも重合およびキャスト溶媒に環境対応の乳酸エチルを用いることができた。

  • Research Products

    (10 results)

All Other

All Publications (10 results)

  • [Publications] K.Tuchiya, Y.Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "A New Negative-Type Photosensitive Polymer Based on Poly (2,6-dihydro-1,5-naphthalene), a Cross-Linker, and a Photoacid Generator"J.Photopolym.Sci.& Technol.. 16. 285-286 (2003)

  • [Publications] T.Fukuhara, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Synthesis of Thermosetting Poly(phenylene ether) containing Allyl Groups"Polymer. 45. 843-847 (2004)

  • [Publications] K.Ebara, Y.Shibasaki, M.Ueda: "New Synthetic Route for Photosensitive Poly(benzoxazole)"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem.. 40. 3379-3405 (2002)

  • [Publications] K.Tsuchiya, Y.Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "Photosensitive Polymer Based on Poly(2,6-dihydroxy-1,5-naphthalene), A Cross-Linker, and a Photoacid Generator"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem.. (in press).

  • [Publications] Y.Watanabe, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Synthesis of Semiaromatic Polyimides from Aromatic Diamines Containing Adamantyl Units and Alicyclic Dianhydrides"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem.. 41. 144-150 (2004)

  • [Publications] K.Fukukawa, Y.Shibasaki, M.Ueda: "Photosensitive Poly(benzoxazole) via Poly(o-hydroxy azomethine) II : Environmentally Benign Process in Ethyl Lactate"Polym.J.. (in press).

  • [Publications] M.Ueda, K.Ebara, Y.Shibasaki: "New Convenient Synthetic Route for Photosensitive Poly(benzoxazole)"J.Photopolym.Sci.& Technol.. 16. 237-242 (2003)

  • [Publications] K.Ebara, Y.Shibasaki, M.Ueda: "Chemically Amplified Photosensitive Poly(benzoxazole)"J.Photopolym.Sci.& Technol.. 16. 287-292 (2003)

  • [Publications] K.Morita, K.Ebara, Y.Shibasaki, K.Goto, S.Tami, M.Ueda: "New Positive-type Photosensitive Polyimide Having Sulfo Groups"Polymer. 44. 6235-6239 (2003)

  • [Publications] K.Matsumoto, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Synthesis of photosensitive and Thermosetting Poly(phenylene ether) Containing Allyl Groups"J.Photopolym.Sci.& Technol.. (in press).

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Published: 2005-04-18   Modified: 2016-04-21  

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