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2017 Fiscal Year Annual Research Report

The possible application of Ni2+ for the oral cancer treatment

Research Project

Project/Area Number 15K11086
Research InstitutionNihon University

Principal Investigator

浅野 正岳  日本大学, 歯学部, 教授 (10231896)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 尾曲 大輔  日本大学, 歯学部, 助教 (10608699)
塩野目 尚  日本大学, 歯学部, 専修医 (10757652) [Withdrawn]
五條堀 孝廣  日本大学, 歯学部, 助教 (10755573)
Project Period (FY) 2015-04-01 – 2018-03-31
Keywordsニッケル / MMP9 / IL-8 / VEGF
Outline of Annual Research Achievements

本研究では、Ni2+イオンによる腫瘍増殖抑制効果について検討してきた。実際には、ヌードマウス舌にヒト口腔扁平上皮癌由来細胞株HSC3の高転移株であるHSC3-M3を接種し、腫瘤形成を確認した後に、通常の水(control)または1mM Ni2+水溶液(Ni)を2~3週間自由飲水させた。舌に形成された癌組織におけるMMP9の発現変化について免疫組織学的に比較検討した結果、Ni群においてはcontrol群と比較して有意にMMP9発現が低下していた。培養細胞を用いたin vitro実験データもこの結果を支持するものであったことから、Ni2+は生体内でも腫瘍増殖抑制効果を発揮すると考えられた。造影剤を用いた実験動物用マイクロCTによる腫瘤の撮影によりcontrol群では腫瘍塊がいわゆるball-in-handsの像を呈していたのに対してNi群では、透過像中にひときわ透過性の高い領域(hyper translucent area)が観察された。組織学的観察の結果、この部位が腫瘍組織中の広範な壊死領域に相当することが明らかとなった。こうした結果は、Ni2+の摂取が、血管新生を抑制することにより腫瘍中心部への血液供給を減少させ、壊死層を形成するに至った可能性が考えられた。これまでに腫瘍組織から抽出したtotal RNAを用いたreal-time PCRにより、vascular endothelial growth factor: VEGF)やIL-8の発現が抑制されていることを明らかにしていたので、さらにmicroarrayによる腫瘍の転移に関与する遺伝子の発現変化について検討を加えた。その結果、Ni2+水溶液飲水群では、腫瘍転移に関連する多くの遺伝子の発現が著しく抑制されていることが明らかとなった。これらの結果は、Ni2+を新たな抗腫瘍製剤として開発することの可能性を示唆するものであり、さらなるメカニズムの解明が極めて重要であると考えられた。

  • Research Products

    (3 results)

All 2018 2017

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results,  Open Access: 1 results) Presentation (2 results)

  • [Journal Article] Nickel chloride administration prevents the growth of oral squamous cell carcinoma.2018

    • Author(s)
      Ota H, Shionome T, Suguro H, Saito S, Ueki K, Arai Y, Asano M.
    • Journal Title

      Oncotarget

      Volume: - Pages: -

    • DOI

      -

    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Presentation] 強心配糖体による口腔扁平上皮癌細胞のIL-8産生抑制メカニズムの解析2017

    • Author(s)
      齋藤五月、浅野正岳、尾曲大輔、月村直樹、石上友彦
    • Organizer
      .第69回日本大学歯学会総会・学術大会
  • [Presentation] 強心配糖体による口腔悪性腫瘍再発抑制効果の検討2017

    • Author(s)
      齋藤五月、大林美穂、舘野 敦、月村直樹、秋田大輔、豊間 均、三橋 裕、石上友彦
    • Organizer
      日本補綴歯科学会第126回学術大会

URL: 

Published: 2018-12-17  

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