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2005 Fiscal Year Annual Research Report

205〜250nm帯深紫外半導体レーザの研究開発

Research Project

Project/Area Number 17106005
Research InstitutionKogakuin University

Principal Investigator

川西 英雄  工学院大学, 工学部, 教授 (70016658)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 本田 徹  工学院大学, 工学部, 助教授 (20251671)
坂本 哲夫  工学院大学, 工学部, 助教授 (20313067)
長谷川 文夫  工学院大学, 工学部, 教授 (70143170)
Keywords深紫外 / 半導体レーザ / 量子井戸 / 窒化物半導体 / 超格子 / 光学異方性 / 発振モード
Research Abstract

本研究の目的を要約すると、「光励起型AlGaN多重量子井戸構造半導体レーザ」が、最短波長2415nm(室温)でレーザ発振したかを科学的に解明すること、及び、その知見を出発点とし、電流注入型深紫外半導体レーザの実現を目指して、その基礎を固めることである。
平成17年度に達成した研究実績を、下記に示す。
(1)AlGaN多重量子井戸構造深紫外半導体レーザの発振波長を、128.9nmとし、世界最短波長記録を更新した。
(2)本研究が提唱してきた(AlN/GaN)多重バッファ層構造による歪み制御により、AlNの「らせん転位」の減少はもとより、一般的に困難とされていた「刃状転位」の減少が可能であることを確認した。これらの事実は、「極微細領域x線評価装置」による解析とともに、平成17年度に新規に導入した「透過型電子顕微鏡」により、貫通転位(その殆どは「刃状転位」成分)が急激に減少出来ることを、直接観測した。
(3)Al高組成(Al組成が60%以上の領域)AlGaNの高品質化が、本研究が提案した、新規なエピタキシャル成長技術「Altemate Source-Feeding Epitaxy (ASFE:交互供給法)」によりエピタキシャル成長層の高品質化を達成した。この成長法は、この分野の研究の標準技術となり、その後、多くの他研究機関がこれを利用するようになった。尚、ここでの成果が、(1)の研究成果につながっている。
(4)研究実施計画には含まれていない、新しい発見があった。すなわち、270〜280nm以下の発光波長を有する高Al組成AlGaNは「C軸方向には殆ど発光が観測されない」、すなわち、光学的異方特性があることを、実験的に発見した。その結果、240〜250nm以下のレーザ発振は、TMモードでのみレーザ発振することを、世界で初めて、実験的に確認した。尚、この事が、「世界中の多くの研究機関で、240nm以下の波長域でレーザ発振の報告例が何故無いのか?」の疑問に対し、極めて、明快な回答を与える。簡単に言えば、高名な多くの研究機関は、表面的な事象だけを重要と思い、研究の基本を試みなかっただけと言える。

  • Research Products

    (5 results)

All 2006 2005

All Journal Article (4 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Journal Article] 紫外AlGaN多重量子井戸型半導体レーザ光の光学的異方特性2006

    • Author(s)
      川西, 瀬沼, 貫井
    • Journal Title

      光学(Japanese J.Optics) 35・5(掲載予定)

  • [Journal Article] Anisotropic polarization characteristics of lasing and spontaneous surface and edge emission from deep-ultra violet (λ≒240nm) AlGaN multiple-quantum-well lasers2006

    • Author(s)
      H.Kawanishi, M.Senuma, T.Nukui
    • Journal Title

      Appl.Phys.Lett (掲載予定)

  • [Journal Article] 光励起によるAlGaN多重量子井戸型深紫外レーザの発振特性-発振波長240〜360nm-2005

    • Author(s)
      川西, 高野, 瀬沼, 貫井
    • Journal Title

      応用物理 74・11

      Pages: 1458-1462

  • [Journal Article] Relationship between Excess Ga and Residual Oxides in Amorphous GaN Films Deposited by Compound Source Molecular Beam Epitaxy2005

    • Author(s)
      N.Obinata, K.Sugimoto, K.Ijima, M.Ishibashi, S.Egawa, T.Honda, H.Kawanishi
    • Journal Title

      Japan.J.Appl.Phys. 44・12

      Pages: 8432-8434

  • [Patent(Industrial Property Rights)] 窒化物半導体結晶の成長2005

    • Inventor(s)
      橋本 英喜, 堀内 明彦, 川西 英雄
    • Industrial Property Rights Holder
      本田技研工業, 川西 英雄
    • Industrial Property Number
      英語国出願PCT/JP2005/016372
    • Filing Date
      2005-08-31

URL: 

Published: 2007-04-02   Modified: 2016-04-21  

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