2006 Fiscal Year Annual Research Report
疎水性、酸性、反応場を制御した固体酸触媒を用いた各種ジフェニルメタン誘導体の合成
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17560683
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| Research Institution | Teikyo University of Science & Technology |
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Principal Investigator |
難波 征太郎 帝京科学大学, 理工学部, 教授 (80114883)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
釘田 強志 帝京科学大学, 理工学部, 助教授 (80225127)
栗林 清 帝京科学大学, 理工学部, 教授 (70234573)
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| Keywords | 固体酸プロセス化 / ゼオライト触媒 / メソボーラス触媒 / 2,6-ジメチルフェノール / ホルマリン / アニリン / メチレンジアニリン / テトラメチルビスフェノールF |
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| Research Abstract |
平成17年度から行ってきた2,6-ジメチルフェノールとホルマリンを用いたビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)メタン、およびアニリンとホルマリンを用いたビス(4-アミノフェニル)メタンの合成を今年度も行った結果、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)メタン、およびビス(4-アミノフェニル)メタンの合成するためのそれぞれの最適固体酸触媒を明らかにすることができた。
すなわち、ゾルゲル法、水熱法、ポストシンセシス法により合成したSi/Ai原子比の異なる各種のメソポーラスアルミノシリケートモレキュラーシーブ触媒、およびSi/Ai原子比の異なる各種ゼオライト触媒を用いて活性試験を行ったところ、ビス(4-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)メタン合成には、ポストシンセシス法でアルミニウムを添加したMCM-41(Si/Al=50)がもっとも高活性であり、収率は96.4%に達した。また、ビス(4-アミノフェニル)メタンの合成には、Si/Al=40のβゼオライトがもっとも活性が高かったが、選択性はSi/Al=10のYゼオライトが最も優れていることが明らかになった。
さらに高活性・高選択性の触媒を開発するためには、表面修飾による疎水性と酸性を制御したメソポーラスモレキュラーシーブを開発する必要があると考え、準備を始めている。
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