Characterization of Si nanoelectronic materials and interface with using synchrotron radiation microprobe

2009 Fiscal Year Final Research Report

• Project/Area Number: 18063019
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• Allocation Type: Single-year Grants
• Review Section: Science and Engineering
• Research Institution: Japan Synchrotron Radiation Research Institute
• Principal Investigator: KIMURA Shigeru Japan Synchrotron Radiation Research Institute, 利用研究促進部門, 副主席研究員 (50360821)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): SAKATA Osami 財団法人高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 主幹研究員 (40215629) ; TAJIRI Hiroo 財団法人高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 研究員 (70360831) ; IMAI Yasuhiko 財団法人高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 研究員 (30416375)
• Project Period (FY): 2006 – 2009
• Keywords: 結晶工学 / 表面・界面物性 / マイクロX線回折 / シンクロトロン放射光

Research Abstract

半導体集積回路の基本素子である金属-絶縁膜-半導体電界効果トランジスタ(MOSFET)の技術開発において、これまでの技術の延命では達成困難な超高集積度、高性能・高機能性を追求し、実現するためには、デバイス中の各パーツの結晶構造や応力分布を解析し、最適な構造にすることが必要不可欠になってきている。そこで、SPring-8の高輝度放射光を用いたマイクロプローブX線技術を発展させ、ナノデバイス材料・界面のナノメーターレベルの微小領域に存在する歪や構造の評価を可能にする高分解能マイクロX線回折システムを開発した。

Research Products

• [Journal Article] High-Angular-Resolution Microbeam X-ray diffraction with CCD Detector (2010)
  • Author(s): Y. Imai, S. Kimura, O. Sakata, A. Sakai
  • Journal Title: AIP Conference Proceedings Vol.1221 Pages: 30-32
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] Monolithic Self-Sustaining Nanographene Sheet Grown Using Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (2010)
  • Author(s): W. Takeuchi, K. Takeda, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, S. Kimura, O. Sakata, H. Tajiri, M. Hori
  • Journal Title: Physica Status Solidi A Vol.207 Pages: 139-143
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] Structural change of direct silicon bonding substrates by interfacial oxide out-diffusion annealing (2010)
  • Author(s): T. Kato, Y. Nakamura, J. Kikkawa, A. Sakai, E. Toyoda, K. Izunome, O. Nakatsuka, S. Zaima, Y. Imai, S. Kimura, O. Sakata
  • Journal Title: Thin Solid Films Vol.518 Pages: S147-S150
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] Microstructures in directly bonded Si substrates (2009)
  • Author(s): Y. Ohara, T. Ueda, A. Sakai, O. Nakatsuka, M. Ogawa, S. Zaima, E. Toyoda, H. Isogai, T. Senda, K. Izunome, H. Tajiri, O. Sakata, S. Kimura, T. Sakata, H. Mori
  • Journal Title: Solid-State Electronics Vol.53 Pages: 837-840
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] Characterization of strained Si wafers by X-ray diffraction techniques (2008)
  • Author(s): T. Shimura, K. Kawamura, M. Asakawa, H. Watanabe, K. Yasutake, A. Ogura, K. Fukuda, O. Sakata, S. Kimura, H. Edo, S. Iida, M. Umeno
  • Journal Title: Journal of Materials Science: Materials in Electronics Vol.19 Pages: S189-S193
  • Peer Reviewed
• [Presentation] CCD型検出器を用いた高角度分解能マイクロx線回折計 (2010)
  • Author(s): 今井康彦, 木村滋, 坂田修身, 田尻寛男, 酒井朗, 小瀬村大亮, 小椋厚志
  • Organizer: 第23回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
  • Place of Presentation: イーグレ姫路
  • Year and Date: 2010-01-08
• [Presentation] High-Angular-Resolution Microbeam X-ray diffraction with CCD Detector (2009)
  • Author(s): Y. Imai, S. Kimura, O. Sakata, A. Sakai
  • Organizer: 20th International Congress on X-Ray Optics and Microanalysis
  • Place of Presentation: Karlsruhe, Germany
  • Year and Date: 20090914-20090918
• [Presentation] Nanometer-scale charac-terization technique using synchrotron radiation microdiffraction (2009)
  • Author(s): S. Kimura
  • Organizer: Japan-Taiwan Joint Symposium on New Functional Materials and Their Nano-Scale Analysis
  • Place of Presentation: Kyoto, Japan
  • Year and Date: 2009-11-25
• [Presentation] SPring-8でのシリコンナノエレクトロニクス研究の現状 (2009)
  • Author(s): 木村滋
  • Organizer: 第55回応用物理学関係連合講演会シンポジウム「シリコン系材料・プロセス評価の最前線-放射光利用による新展開」
  • Place of Presentation: 日本大学船橋キャンパス
  • Year and Date: 2009-03-29
• [Presentation] 高分解能マイクロx線回折装置の現状と応用研究 (2009)
  • Author(s): 今井康彦、木村滋、坂田修身、田尻寛男
  • Organizer: 第22回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム
  • Year and Date: 2009-01-12
• [Book] 「第3版現代界面コロイド化学の基礎」, "放射光を利用した表面x線構造解析", 9章 (2009)
  • Author(s): 木村滋、坂田修身
  • Total Pages: 417-720
  • Publisher: 丸善
• [Book] 「機能物質・材料開発と放射光-SPring-8の産業利用-」, "放射光マイクロx線回折法によるひずみ緩和SiGeバッファー層の評価", 第9章 (2008)
  • Author(s): 木村滋、竹田晋吾、酒井朗
  • Total Pages: 87-95
  • Publisher: シーエムシー出版
• [Remarks]
  • URL: http://www.spring8.or.jp/ja/memberdata/04124