2008 Fiscal Year Final Research Report
Yield optimum layout generation under optical proximity effect
| Project/Area Number |
18560327
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 一般 |
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| Research Field |
Electron device/Electronic equipment
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| Research Institution | The University of Tokyo |
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Principal Investigator |
IKEDA Makoto The University of Tokyo, 大規模集積システム設計教育研究センター, 准教授 (00282682)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
SASAKI Masahiro 東京大学, 大規模集積システム設計教育研究センター, 助教 (50339701)
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| Project Period (FY) |
2006 – 2008
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| Keywords | 電子デバイス / 電子機器 / マスクレイアウト設計 |
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| Research Abstract |
集積回路の製造において用いられる微細なパターンの光転写において不可避となっている光学近接効果補正に対して、本研究では、設計パターンと製造されるパターンから逆問題を解くことにより補正を実施する手法の検討、パターン転写による製造不良を削減可能であることを示した。さらに、転写におけるばらつきがディジタル設計向けのセルにおける遅延、リークに与える影響の検討を行い、光学近接効果を考慮した場合のセルレイアウトの最適化によりセルのリーク電力低減に効果的であることを示した。
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