2008 Fiscal Year Final Research Report
Next-Generation High-Level Synthesis System Based on Deep Submicron Technology
| Project/Area Number |
18700049
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Computer system/Network
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| Research Institution | Waseda University |
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Principal Investigator |
TOGAWA Nozomu Waseda University, 理工学術院, 准教授 (30298161)
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| Project Period (FY) |
2006 – 2008
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| Keywords | システムLSI / 高位合成 / 動作合成 / 物理合成 / 最適化アルゴリズム |
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| Research Abstract |
システムLSI設計技術は,配線幅が90nmや65nmといったディープサブミクロン時代に突入し,その設計生産性を向上するには,システムの動作レベルからシステムLSIを自動設計することを可能とした「高位合成技術」が極めて有効である.本研究ではディープサブミクロン技術を想定した物理設計指向の高位合成アルゴリズムを提案しならびに高位合成フローを構築した.構築した高位合成フローを利用することにより,従来の設計フローに比較して,30%以上の動作速度向上を確認した.
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