Development of HW-CVD technique with a radical source and application to preparation of doped nanocrystalline thin films

2008 Fiscal Year Final Research Report

• Project/Area Number: 19560314
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Single-year Grants
• Section: 一般
• Research Field: Electronic materials/Electric materials
• Research Institution: Nagoya University
• Principal Investigator: TABATA Akimori Nagoya University, 大学院・工学研究科, 准教授 (20227250)
• Project Period (FY): 2007 – 2008
• Keywords: ホットワイヤー化学気相成長法 / ラジカル源 / ナノ結晶 / 炭化シリコン / ドーピング / N_2分解

Research Abstract

シラン・メタンを原料としたホットワイヤー化学気相成長(HW-CVD)法によるn型およびp型ナノ結晶SiC薄膜の作製に関する研究を行った。(1)予備実験として、N2のHW上での分解を調べ、N_2がHW-CVD法においても有用なN源であることを明らかにした。(2)N_2およびH_2ガス流量を制御して膜の結晶性およびN混入量の制御を図ることにより、高い電気伝導度を有するNドープn型膜の作製に成功した。(3)ラジカル源を併用することにより、固体源をドーパントとしても不純物添加ができ、p型膜の作製の可能性を示した

Research Products

• [Journal Article] Preparation of N-type nanocrystalline 3C-SiC films by hot-wire CVD using N2 as doping gas (2009)
  • Author(s): Y. Hoshide, A. Tabata, A. Kitagawa, A. Kondo
  • Journal Title: Thin Solid Films 517 Pages: 3524
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] H_2 decomposition by hot wire and N_2 post-deposition treatment on hydrogenated microcrystalline silicon thin films (2009)
  • Author(s): M. Koji, A. Tabata, A. Kitagawa, A. Kondo
  • Journal Title: Thin Solid Films 517 Pages: 3452
  • Peer Reviewed
• [Presentation] ガラス基板上へのn型ナノ結晶3C-SiC薄膜の低温堆積とその高品質化 (2008)
  • Author(s): 星出純希, 田畑彰守, 北川明彦, 近藤明弘
  • Organizer: SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会第17回講演会予稿集
  • Place of Presentation: 大田区産業プラザ(35-36)
  • Year and Date: 2008-12-08
• [Presentation] Improvement of electrical properties of n-type nano- crystalline 3C-SiC thin films prepared by hot-wire CVD at high H2-dilution (2008)
  • Author(s): Y. Hoshide, A. Tabata
  • Organizer: 30th International Symposium on Dry Process
  • Place of Presentation: Tokyo (Japan)
  • Year and Date: 2008-11-26
• [Presentation] Preparation of n-type nano- crystalline 3C-SiC films by hot-wire CVD using N2 as doping gas (2008)
  • Author(s): Y. Hoshide, A. Tabata, A. Kitagawa, A. Kondo
  • Organizer: 5th International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) process
  • Place of Presentation: Massachusetts (USA)
  • Year and Date: 2008-08-23
• [Presentation] H_2 decomposition by hot wire and N2 post-deposition treatment on hydrogenated microcrystalline silicon thin films (2008)
  • Author(s): M. Koji, A. Tabata, A. Kitagawa, A. Kondo
  • Organizer: 5th International Conference on Hot-Wire CVD (Cat-CVD) process
  • Place of Presentation: Massachusetts (USA)
  • Year and Date: 2008-08-23
• [Presentation] N2ガスをドーピング原料としたn型ナノ結晶3C-SiC薄膜の開発 (2008)
  • Author(s): 星出純希, 田畑彰守, 北川明彦, 近藤明弘
  • Organizer: 第5回Cat-CVD研究会講演予稿集
  • Place of Presentation: 神奈川工科大学メディアホール(33-36)
  • Year and Date: 2008-06-20
• [Presentation] ホットワイヤーによるN2ガス分解 (2008)
  • Author(s): 間崎耕司, 田畑彰守, 北川明彦, 近藤明弘
  • Organizer: 第5回Cat-CVD研究会講演予稿集
  • Place of Presentation: 神奈川工科大学メディアホール(33-36)
  • Year and Date: 2008-06-20