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2009 Fiscal Year Annual Research Report

In-situリアルタイム観察に基づくGe表面の初期酸化過程とその制御の研究

Research Project

Project/Area Number 19686037
Research InstitutionThe University of Tokyo

Principal Investigator

喜多 浩之  The University of Tokyo, 大学院・工学系研究科, 准教授 (00343145)

Keywordsゲルマニウム / 二酸化ゲルマニウム / 一酸化ゲルマニウム / 分光エリプソメトリー / 酸化機構 / 表面酸化 / 光吸収 / 酸素欠損
Research Abstract

本研究ではGeの表面酸化を,GeO_2形成とGeO脱離の2つの過程の同時進行する現象と捉え直し,GeO脱離が酸化膜の膜質へ与える影響を定量的に明確化すること,また,その制御指針を示すことを目的としてきた。前年度までに,分光エリプソメトリーで測定したGeO_2の複素屈折率の虚数成分により,バンドギャップよりもやや小さい5~6eVのエネルギー領域での光吸収(サブギャップ吸収)を評価すると,これがGeO_2膜質の定量的な指標となることを示した。そこで今年度は,酸素分圧の異なる雰囲気中で加熱されたGeO_2/Geスタックに同手法を適用し,熱処理中の酸素分圧,温度,処理時間の効果を系統的に調査した。
まず,酸素分圧を変化させて熱処理を行ったところ,酸素分圧の上昇と共にサブギャップは減少し,あるしきい圧力以上を与えると完全に消滅することが明確となった。このことから,サブギャップ吸収はGeO_2中の酸素欠損に由来する欠陥生成を表わすことが分かった。また,種々の温度において,サブギャップの抑制に必要となるしきい酸素分圧を評価したところ,温度の上昇と共にしきい酸素分圧も上昇した。これは,酸素欠損が高温ほど生じ易くなる熱力学的な関係とよく対応する。また,サブギャップの大きさの熱処理時間依存性を調べたところ,時間とともに急速に上昇したのちに飽和する様子が観察された。このことも酸素欠損に伴う欠陥の濃度は熱力学的な平衡状態で収束することを表わすと考えられる。また,この飽和の時定数の温度依存性は,GeO脱離速度のそれとよく一致しており,GeO脱離と共に欠陥形成が進んでいると考えればよいことが分かった。以上の実験結果から,GeO_2中に熱処理とともに形成される酸素欠損性の欠陥濃度を定式化することに成功し,本研究の当初の目的はほぼ達成された。

  • Research Products

    (23 results)

All 2010 2009 Other

All Journal Article (8 results) (of which Peer Reviewed: 7 results) Presentation (14 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] GeO_2/Ge界面制御によるGe-nMOSFETsの電子移動度の向上-Siユニバーサルカーブを超える移動度特性の実証-2010

    • Author(s)
      李忠賢, 西村知紀, 喜多浩之, 長汐晃輔, 鳥海明
    • Journal Title

      電子情報通信学会技術研究報告 109(408)

      Pages: 13-16

  • [Journal Article] Ge/GeO_2 Interface Control with High-Pressure Oxidation for Improving Electrical Characteristics2009

    • Author(s)
      C.H.Lee, T.Tabata, T.Nishimura, K.Nagashio, K.Kita, A.Toriumi
    • Journal Title

      Applied Physics Express 2

      Pages: 71404

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Control of Properties of GeO_2 Films and Ge/GeO_2 Interfaces by the Suppression of GeO Volatilization2009

    • Author(s)
      喜多浩之, 李忠賢, 西村知紀, 長汐晃輔, 鳥海明
    • Journal Title

      ECS Transactions 19(2)

      Pages: 101-116

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Ge/GeO_2 Interface Control with High Pressure Oxidation for Improving Electrical Characteristics2009

    • Author(s)
      C.H.Lee, T.Tabata, T.Nishimura, K.Nagashio, K.Kita, A.Toriumi
    • Journal Title

      ECS Transactions 19(1)

      Pages: 165-173

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Comprehensive Study of GeO_2 Oxidation, GeO Desorption and GeO_2-Metal Interaction. Understanding of Ge Processing Kinetics for Perfect Interface Control-2009

    • Author(s)
      K.Kita, S.K.Wang, M.Yoshida, C.H.Lee, K.Nagashio, T.Nishimura, A.Toriumi
    • Journal Title

      Technical Digest of 2009 IEEE International Electron Device Meeting 2009

      Pages: 693-696

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Spectroscopic Ellipsometry Study on Defects Generation in GeO_2/Ge stacks2009

    • Author(s)
      K.Kita, M.Yoshida, T.Nishimura, K.Nagashio, A.Toriumi
    • Journal Title

      Extended Abstracts of 2009 International Conference on Solid State Devices and Materials 2009

      Pages: 1008-1009

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] ^<18>O isotope tracing of GeO Desorption from GeO_2/Ge Structure2009

    • Author(s)
      S.K.Wang, K.Kita, T.Nishimura, K.Nagashio, A.Toriumi
    • Journal Title

      Extended Abstracts of 2009 International Conference on Solid State Devices and Materials 2009

      Pages: 1002-1003

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] High Electron Mobility Ge n-Channel MOSFETs with GeO_2 grown by High Pressure Oxidation2009

    • Author(s)
      C.H.Lee, T.Nishimura, T.Tabata, K.Nagashio, K.Kita, A.Toriumi
    • Journal Title

      Extended Abstracts of 2009 International Conference on Solid State Devices and Materials 2009

      Pages: 1000-1001

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 低圧酸素雰囲気下におけるGe表面の活性酸化2010

    • Author(s)
      王盛凱, 喜多浩之, 西村知紀, 長汐晃輔, 鳥海明
    • Organizer
      第57回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      平塚市
    • Year and Date
      2010-03-18
  • [Presentation] GeO_2MISスタックのフラットバンド電圧に対するGeO_2/メタル界面の影響2010

    • Author(s)
      喜多浩之, 西村知紀, 李忠賢, アルザキアファド, 長汐晃輔, 鳥海明
    • Organizer
      第57回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      平塚市
    • Year and Date
      2010-03-18
  • [Presentation] GeO_2形成時の高圧酸化と1気圧酸化の本質的な違い-バルクGeO_2膜とGeO_2/Ge界面の独立な制御-2010

    • Author(s)
      李忠賢, 西村知紀, 長汐晃輔, 喜多浩之, 鳥海明
    • Organizer
      第57回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      平塚市
    • Year and Date
      2010-03-18
  • [Presentation] 高圧O_2熱処理がGe/GeO_2に及ぼす影響2010

    • Author(s)
      吉田まほろ, 喜多浩之, 李忠賢, 西村知紀, 長汐晃輔, 鳥海明
    • Organizer
      第57回応用物理学関係連合講演会
    • Place of Presentation
      平塚市
    • Year and Date
      2010-03-18
  • [Presentation] UV分光エリプソメトリを用いた複素屈折率測定に基づくGe上GeO_2薄膜の欠陥評価2010

    • Author(s)
      吉田まほろ, 喜多浩之, 西村知紀, 長汐晃輔, 鳥海明
    • Organizer
      応用物理学会 薄膜・表面物理分科会/シリコンテクノロジー分科会共催 特別研究会「ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-」
    • Place of Presentation
      三島市
    • Year and Date
      2010-01-22
  • [Presentation] Ge/GeO_2界面から脱離するGeOのTDSによる解析2010

    • Author(s)
      王盛凱, 喜多浩之, 田畑俊行, 西村知紀, 長汐晃輔, 鳥海明
    • Organizer
      応用物理学会 薄膜・表面物理分科会/シリコンテクノロジー分科会共催 特別研究会「ゲートスタック研究会-材料・プロセス・評価の物理-」
    • Place of Presentation
      三島市
    • Year and Date
      2010-01-22
  • [Presentation] Kinetic Study of GeO Desorption from Ge/GeO_2 System2009

    • Author(s)
      S.K.Wang, K.Kita, C.H.Lee, T.Tabata, K.Nagashio, T.Nishimura, A.Toriumi
    • Organizer
      40th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference
    • Place of Presentation
      Arlingnton(USA)
    • Year and Date
      2009-12-03
  • [Presentation] Sub-gap Formation and Its Annihilation in Energy Band Gap of GeO_2 by Changing O_2 Pressure in PDA Process2009

    • Author(s)
      吉田まほろ, 喜多浩之, 長汐晃輔, 西村知紀, 鳥海明
    • Organizer
      40th IEEE Semiconductor Interface Specialists Conference
    • Place of Presentation
      Arlingnton(USA)
    • Year and Date
      2009-12-02
  • [Presentation] Ge高圧酸化におけるGeO脱離抑制に対する全圧と分圧の違い2009

    • Author(s)
      李忠賢, 西村知紀, 長汐晃輔, 喜多浩之, 鳥海明
    • Organizer
      第70回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      富山市
    • Year and Date
      2009-09-11
  • [Presentation] GeO_2膜のサブギャップ光吸収とGeO脱離量の相関の考察2009

    • Author(s)
      喜多浩之, 吉田まほろ, 西村知紀, 長汐晃輔, 鳥海明
    • Organizer
      第70回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      富山市
    • Year and Date
      2009-09-11
  • [Presentation] Ge/GeO_2からのGeO脱離における活性化エネルギーのTDSによる評価2009

    • Author(s)
      王盛凱, 喜多浩之, 李忠賢, 西村知紀, 長汐晃輔, 鳥海明
    • Organizer
      第70回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      富山市
    • Year and Date
      2009-09-11
  • [Presentation] GeO_2膜のアニール後に観測されるサブギャップ抑制のための高圧酸素圧力の定量化2009

    • Author(s)
      吉田まほろ, 喜多浩之, 西村知紀, 長汐晃輔, 鳥海明
    • Organizer
      第70回応用物理学会学術講演会
    • Place of Presentation
      富山市
    • Year and Date
      2009-09-11
  • [Presentation] Ge/GeO_2 Interface Control with High Pressure Oxidation for Improving Electrical Characteristics2009

    • Author(s)
      C.Lee, T.Tabata, T.Nishimura, K.Nagashio, K.Kita, A.Toriumi
    • Organizer
      215th Meeting, The Electrochemical Society
    • Place of Presentation
      San Francisco(USA)
    • Year and Date
      2009-05-27
  • [Presentation] Control of Properties of GeO_2 Films and Ge/GeO_2 Interfaces by the Suppression of GeO Volatilization2009

    • Author(s)
      喜多浩之, 李忠賢, 西村知紀, 長汐晃輔, 鳥海明
    • Organizer
      215th Meeting, The Electrochemical Society
    • Place of Presentation
      San Francisco(USA)
    • Year and Date
      2009-05-25
  • [Remarks]

    • URL

      http://www.adam.t.u-tokyo.ac.jp/top.html

URL: 

Published: 2011-06-16   Modified: 2016-04-21  

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