• Search Research Projects
  • Search Researchers
  • How to Use
  1. Back to project page

2020 Fiscal Year Annual Research Report

Creation and comprehensive exploration of high performance thermoelectric semiconductor utilizing natural quantum structure of layered transition metal compound

Research Project

Project/Area Number 19H02425
Research InstitutionTokyo Institute of Technology

Principal Investigator

片瀬 貴義  東京工業大学, 科学技術創成研究院, 准教授 (90648388)

Project Period (FY) 2019-04-01 – 2022-03-31
Keywords熱電変換材料 / 層状半導体 / 量子構造 / 材料設計 / 低環境負荷
Outline of Annual Research Achievements

無毒で豊富な元素で構成される高性能熱電半導体の実現を目指して、層状遷移金属化合物のバルク二次元電子ガスを利用して巨大熱電能を引き出す、その材料設計指針を確立することを目的としている。昨年度は、層状遷移金属窒化物AETMN2(AE=Ca,Sr,Ba、TM=Ti,Zr,Hf)に着目し、グローブボックスから大気解放無しで直接窒化処理が可能な電気炉を用いて、全て高純度金属を出発原料として合成条件を最適化することで、90mol%を超える高純度バルク試料の作製に成功した。今年度は、合成時に窒素源を用いることで、酸化物不純物の生成を抑制し、バルク試料の純度を95mol%まで向上させることに成功した。その結果、高純度化したバルク試料が温度35Kで強磁性を示すことを発見した。磁性元素を含んでいないにも関わらず、強磁性を示すことから、TMイオンを含む2次元層に由来した特異な磁気物性を見出せたと考えている。また、第一原理計算により、異原子価イオンの添加によるドーピング機構とキャリア制御について検討し、高純度化したバルク試料にLa,Nb,Ta等の異原子価イオンの置換ドーピングを行い、系統的にキャリア輸送特性の評価を行った。また並行して、パルスレーザー堆積-スパッタリング複合成膜装置を用いて、エピタキシャル薄膜の作製条件を検討し、成膜時の窒素分圧と熱処理温度の最適化を行った。また第一原理計算により、同様にTMdxy軌道が伝導帯を形成する化合物を探索し、Moを含む層状化合物を見出した。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

独自のバルク合成法を確立したことにより、95mol%を超えるAETMN2高純度試料を実現した。これにより、半導体特性を明らかにしただけでなく、磁性元素を含んでいないにも関わらず、強磁性を示すユニークな特性を明らかにした。

Strategy for Future Research Activity

95mol%まで高純度化したAETMN2バルク試料及びエピタキシャル薄膜の熱電特性の評価を行う。また、第一原理計算により、AETMN2が発現する強磁性のメカニズムを解明する。更に第一原理計算から予測されたMo系層状化合物の薄膜合成を行う。

  • Research Products

    (25 results)

All 2021 2020 Other

All Int'l Joint Research (3 results) Journal Article (4 results) (of which Peer Reviewed: 4 results,  Open Access: 1 results) Presentation (17 results) (of which Int'l Joint Research: 1 results,  Invited: 1 results) Remarks (1 results)

  • [Int'l Joint Research] 華中科技大学/蘇州大学/南方科技大学(中国)

    • Country Name
      CHINA
    • Counterpart Institution
      華中科技大学/蘇州大学/南方科技大学
  • [Int'l Joint Research] ウィーン工科大学(オーストリア)

    • Country Name
      AUSTRIA
    • Counterpart Institution
      ウィーン工科大学
  • [Int'l Joint Research] 中央研究院(台湾)

    • Country Name
      台湾
    • Counterpart Institution
      中央研究院
  • [Journal Article] Reversible 3D-2D structural phase transition and giant electronic modulation in non-equilibrium alloy semiconductor, lead-tin-selenide2021

    • Author(s)
      Takayoshi Katase, Yudai Takahashi, Xinyi He, Terumasa Tadano, Keisuke Ide, Hideto Yoshida, Shiro Kawachi, Junichi Yamaura, Masato Sasase, Hidenori Hiramatsu, Hideo Hosono, and Toshio Kamiya
    • Journal Title

      Science Adv.

      Volume: 7 Pages: eabf2725

    • DOI

      10.1126/sciadv.abf2725

    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Journal Article] Double charge polarity switching in Sb-doped SnSe with switchable substitution sites2020

    • Author(s)
      Chihiro Yamamoto, Xinyi He, Takayoshi Katase, Keisuke Ide, Yosuke Goto, Yoshikazu Mizuguchi, Akane Samizo, Makoto Minohara, Shigenori Ueda, Hidenori Hiramatsu, Hideo Hosono, and Toshio Kamiya
    • Journal Title

      Adv. Funct. Mater.

      Volume: 31 Pages: 2008092

    • DOI

      10.1002/adfm.202008092

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Shallow valence band of rutile GeO2 and p-type doping2020

    • Author(s)
      Christian A. Niedermeier, Keisuke Ide, Takayoshi Katase, Hideo Hosono, and Toshio Kamiya
    • Journal Title

      J. Phys. Chem. C

      Volume: 124 Pages: 25721-25728

    • DOI

      10.1021/acs.jpcc.0c07757

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] p-Type Transparent Quadruple Perovskite Chloride Conductors: Fact or Fiction?2020

    • Author(s)
      Sanlue Hu, Bing Xia, Yang-Peng Lin, Takayoshi Katase, Jun Fujioka, Toshio Kamiya, Hideo Hosono, Ke-Zhao Du, and Zewen Xiao
    • Journal Title

      Adv. Funct. Mater.

      Volume: 30 Pages: 1909906

    • DOI

      10.1002/adfm.201909906

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 不活性電子対制御によるカルコゲナイド半導体の巨大電子物性変調2021

    • Author(s)
      片瀬貴義
    • Organizer
      日本磁気学会 第68回化合物新磁性材料専門研究会
  • [Presentation] Ca2RuO4薄膜における電流誘起抵抗転移のRu欠損量依存性2021

    • Author(s)
      福地 厚,椿 啓司,石田 典輝,片瀬 貴義,神谷 利夫,有田 正志,高橋 庸夫
    • Organizer
      2021年第68回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] 超ワイドギャップアモルファス酸化物半導体を用いたショットキーバリアダイオードの逆バイアス特性2021

    • Author(s)
      井手啓介、笠井悠莉華、片瀬貴義、平松秀典、細野秀雄、神谷利夫
    • Organizer
      2021年第68回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] 準安定(Pb1-xSnx)Se薄膜の2次元-3次元構造転移と巨大電子物性変調2021

    • Author(s)
      高橋 雄大,片瀬 貴義、ホ シンイ,只野 央将,井手 啓介,吉田 秀人,河智 史朗,山浦 淳一,笹瀬 雅人、平松 秀典,細野 秀雄,神谷 利夫
    • Organizer
      2021年第68回応用物理学会春季学術講演会
  • [Presentation] Electronic property modulation of transition metal oxides by electrochemical and strain engineering2020

    • Author(s)
      Takayoshi Katase
    • Organizer
      2020 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM)
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] トレードオフの相関を破る酸化物熱電材料の高出力化2020

    • Author(s)
      片瀬貴義、樋口雄飛、木村公俊、只野央将、藤岡淳、井手啓介、平松秀典、細野秀雄、神谷利夫
    • Organizer
      第17回 日本熱電学会学術講演会
  • [Presentation] 超ワイドギャップa-Ga-O薄膜トランジスタへの水素プラズマ処理効果2020

    • Author(s)
      加藤昭宏、笠井悠莉華、井手啓介、片瀬貴義、平松秀典、細野秀雄、神谷利夫
    • Organizer
      薄膜材料デバイス研究会 第17回研究会「薄膜デバイスの原点」
  • [Presentation] LaNiO3超薄膜の表面終端処理によるフォノンドラッグ熱電能の増強効果2020

    • Author(s)
      木村公俊、片瀬貴義、井手啓介、平松秀典、細野秀雄、神谷利夫
    • Organizer
      薄膜材料デバイス研究会 第17回研究会「薄膜デバイスの原点」
  • [Presentation] LaNiO3極薄膜の金属-絶縁体転移に伴う巨大フォノンドラッグ熱電効果の発現2020

    • Author(s)
      木村公俊、樋口雄飛、片瀬貴義、井手啓介、平松秀典、細野秀雄、神谷利夫
    • Organizer
      日本セラミックス協会 第40回電子材料研究討論会
  • [Presentation] 2次元層状半導体AETMN2 (AE = Sr, Ba, TM = Ti, Zr, Hf)の高純度試料合成と電気・磁気特性2020

    • Author(s)
      白石明浩、ホー シンイ、渡邉脩人、片瀬貴義、井手啓介、平松秀典、細野秀雄、神谷利夫
    • Organizer
      日本セラミックス協会 第40回電子材料研究討論会
  • [Presentation] 層状半導体AE2CuInO3Ch (AE :アルカリ土類、Ch :カルコゲン)の光電子物性と両極性伝導制御の可能性2020

    • Author(s)
      長達也、ホーシンイ、森大介、片瀬貴義、井手啓介、平松秀典、細野秀雄、神谷利夫
    • Organizer
      日本セラミックス協会 第40回電子材料研究討論会
  • [Presentation] 準安定(Pb1-xSnx)Se固溶体バルク試料の合成と2次元-3次元構造転移に伴う巨大電子物性変調2020

    • Author(s)
      西村優作、ホーシンイ、片瀬貴義、井手啓介、平松秀典、細野秀雄、神谷利夫
    • Organizer
      日本セラミックス協会 第40回電子材料研究討論会
  • [Presentation] 超ワイドギャップアルカリ土類酸化物への電子ドーピングの理論的検討2020

    • Author(s)
      橋本幸花、ホーシンイ、片瀬貴義、井手啓介、細野秀雄、神谷利夫
    • Organizer
      日本セラミックス協会 第40回電子材料研究討論会
  • [Presentation] Density functional study on electronic structure, defect formation and carrier doping control of AETMN2 (AE=Ca,Sr,Ba, TM=Ti,Zr,Hf)2020

    • Author(s)
      ホーシンイ、片瀬貴義、井手啓介、細野秀雄、神谷利夫
    • Organizer
      日本セラミックス協会 第40回電子材料研究討論会
  • [Presentation] Ca2RuO4エピタキシャル薄膜が示す電流誘起絶縁体-金属転移とその抵抗変化特性2020

    • Author(s)
      福地厚, 椿啓司, 石田典輝, 片瀬貴義, 神谷利夫, 高橋庸夫、有田正志
    • Organizer
      日本セラミックス協会 第40回電子材料研究討論会
  • [Presentation] 電流誘起型金属絶縁体転移物質Ca2RuO4薄膜が示す高い安定性を持った抵抗スイッチング動作2020

    • Author(s)
      椿啓司, 石田典輝, 福地厚, 片瀬貴義, 神谷利夫, 有田正志, 高橋庸夫
    • Organizer
      第81回応用物理学会秋季学術講演会
  • [Presentation] Ca2RuO4エピタキシャル薄膜における非線形伝導現象2020

    • Author(s)
      福地厚, 椿啓司, 石田典輝, 高橋庸夫, 片瀬貴義, 神谷利夫, 有田正志
    • Organizer
      日本物理学会 2020年秋季大会
  • [Remarks] researchmap

    • URL

      https://researchmap.jp/katase/

URL: 

Published: 2021-12-27  

Information User Guide FAQ News Terms of Use Attribution of KAKENHI

Powered by NII kakenhi