2008 Fiscal Year Annual Research Report
紫外エキシマレーザによる導電性有機高分子の形態制御に関する研究
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20560681
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| Research Institution | Aichi Institute of Technology |
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Principal Investigator |
内田 悦行 Aichi Institute of Technology, 工学部, 教授 (20023187)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
内田 敬久 愛知工業大学, 工学部, 准教授 (20367626)
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| Keywords | 材料加工・処理 / 高分子構造・物性 / 高性能レーザー / 有機導体 / 電子・電気材料 |
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| Research Abstract |
本研究は,有機高分子薄膜を作製し,レーザ照射による高分子の形態制御を行い,高性能な有機電界効果トランジスタの設計製作法を開発し,試作実証するとを目的とする
1.有機高分子P3HT薄膜を作製する。ドロップキャスト法ならびにスピンコート法で作製する。ドロップキャスト法で成膜すると高分子の骨格面を基板に垂直に配列配向する特姓を示し,スピンコート法で成膜すると高分子の骨格面を基板に水平に配列配向する特性を示すことをX線回折スペクトルから解析・評価した。
2.レーザフルエンス可変レーザ実験システムにおいて波長248nmのKrFエキシマレーザ装置を使用する。レーザフルエンスの有機薄膜への改質特性を解析・評価する。レーザフルエンス可変光学糸によるレーザビームサイズとX線照射面積の関係がX線スペクトルビーク強度に影響するとが分かり,影響を校正する手法を見出した。
3.有機高分子薄膜のレーザ照射前後の配列配向特性を解析・評価する。X線回折装置,紫外可視分光分析装置で評価する。レーザ照射により膜が加工される条件,高分子膜が改質し発子構造が変化する条件を,レーザフルエンスとパルス数を変えて調べた。どちらにも飽和特性があると解析・評価した。
4.レーザ実験システムにリソグラフィ加工機能を追加する。マスク縮小拡大投影光学系によのシャープな加工を実現した。アブレーション非熱光化学反応による加工実験データをレーザフルエンス可変として表面形状表面計測結果と共に蓄積している。
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