フッ素処理エナメル質の表面性状に関する研究

1986 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 61440084
• Research Institution: Osaka Dental University
• Principal Investigator: 小西 浩二 阪歯大, 歯学部, 教授 (40066973)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 小出 武 大阪歯科大学, 歯学部・口腔衛生学教室, 助手 (30121817) ; 熊崎 護 大阪歯科大学, 歯学部・口腔衛生学教室, 助教授 (80066985) ; 慰斗 秀光 大阪歯科大学, 歯学部・口腔衛生学教室, 助手 (20103088) ; 神原 正樹 大阪歯科大学, 歯学部・口腔衛生学教室, 講師 (90103085)
• Keywords: フッ素 / ハイドロキシアパタイト / フルオルアパタイト / フッ化カルシウム / エナメル質 / X線光電子 / 電気化学

Research Abstract

エナメル質最表層面の性状を検索する前段階として、ハイドロキシアパタイト(HAP)およびフッ化カルシウム(Ca【F_2】)を試料に、X線光電子学的および電気化学的に検討を加えた。本年度における研究内容から、次のような知見を得た。1.X線光電子学的所見(ESCA分析結果)(1)ESCAのWide Scanningにおいて、HAPでは、【Ca_(2P)】,【Ca_(2S)】,Ca｀3P,P｀3P,P｀2P,P｀2S,C｀1S,O｀1S,O｀KLLに、また、CaF｀2では、Ca｀2P,【Ca_(2S)】,【Ca_(3P)】,【C_(1S)】,【O_(1S)】,【F_(1S)】,【F_(kLL)】に明らかなピークが認められたことにより、ESCAによる試料表面の定性的分析が可能であることが明らかになった。(2)各元素のピーク位置は、HAPでCaが347.41eV,Pが133.30eVであり、一方、Ca【F_2】でCaが347.98eV,Fが685.0eVであった。すなわち、両試料のCaの位置に有意差が認められ、Caの結合状態が異なることが示唆された。(3)CaおよびPの相対濃度から得たCa/P比は、HAPで1.34,Ca【F_2】で0.61であった。2.電気化学的所見(zeta電位測定結果)(1)HAPのzeta電位は、pH6.21で+8.26mV,pH7.17で-10.56mVおよびpH7.74で-20.38mVであった。一方、Ca【F_2】では、pH6.04で+21.1mV,pH7.02で+17.0mVおよびpH8.05で+2.4mVであった。(2)以上の測定値から、HAPおよびCa【F_2】の等電点は、pHi【〜!-】7.0およびpHi>8.0付近に存在することが示唆された。(3)すなわち、HAPとCa【F_2】とでは、粒子表面の界面電気二重層構造が異なることが明らかになった。今後、フルオルアパタイト(FAP)についても同様の検討を加え、フッ素処理前後のエナメル質の表面性状の解析を行う予定である。

Research Products

• [Publications] Koji Konishi;Masaki Kambara;Hideaki Noshi;Mibu Uemura: J.Osaka Dental University. 21. (1987)
• [Publications] Masaki Kambara;Mibu Uemura;Koji Konishi: J.Osaka Dental University. 21. (1987)
• [Publications] Tatsuro Miyake;Kazuo Nomura;Hideaki Noshi;Masaki Kambara;Koji Konishi: J.Osaka Dental University. 21. (1987)