光磁気メモリー用アモルファス合金薄膜のミクロ構造解析

1986 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 61460195
• Research Institution: Tohoku University
• Principal Investigator: 鈴木 謙爾 東北大, 金属材料研究所, 教授 (10005861)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 福永 俊晴 東北大学, 金属材料研究所, 助手 (60142072) ; 神山 智明 東北大学, 金属材料研究所, 助手 (90005926) ; 甲斐 鎌三 東北大学, 金属材料研究所, 助手 (40005947) ; 伊藤 文武 東北大学, 金属材料研究所, 助教授 (60005907)
• Keywords: アモルファス合金薄膜 / Fe / Fe-Tb合金 / クラスター・イオン・ビーム堆積法 / 磁気的性質 / ミクロ構造

Research Abstract

1.クラスター・イオン・ビーム法によるFe薄膜の作製
クラスター・イオン・ビーム法によるアモルファス薄膜の形成に関する基本技術を確立するために、Fe単体金属をとりあげ、ルツボ温度,イオン化電流,加速電圧,基板温度,基板材質雰囲気真空度などをパラメーターとして、系統的に薄膜形成実験をくりかえした。その結果、基板温度が室温程度であっても一定の堆積速度を保ちつつルツボ温度を可及的に低くすれば、かなりのイオン化電流を与えても安定なアモルファスFe膜が得られることがわかった。
2.アモルファスFe膜のX線回析
基板に堆積したままの状態で厚さ1000【A!°】程度のアモルファスFe薄膜のX線回折実験を可能にするため、入射X線とアモルファス薄膜面のなす角を可及的に小さくする特殊なスリット とこれに組み合せるモノクロメーターを設備した。データ解析のコンピューターソフトを作製した。
3.アモルファスFe薄膜の物牲
本実験において、クラスター・イオン・ビーム法により作製されたアモルファスFe薄膜は比較的安定であり、結晶化温度は600℃とかなり高い。EPMAならびにオージェ・電子分光により最も多くても数at%程度のOおよびCが含まれていることがわかった。磁気的には強磁性体であり、キューリー温度は380℃である。
4.クラスター・イオン・ビーム法によるアモルファスFe-Tb合金薄膜の試作
FeならびにTbクラスター別々のイオン・ビーム銃から噴出させて、冷却したガラス基板上に同時に堆積させることによりFe-Tb合金薄膜を作製することが可能であることを見い出した。次年度に最適堆積条件を見い出し、得られた膜の物性を調べる予定である。

Research Products

• [Publications] 甲斐鎌三,田中尚生,呉国偉,鈴木謙爾: Proc・Inter.Workshop on Ionized Cluster Beam Technique(edited by T.Takagi,京大イオン工学実験施設,June 3-4,1986. 167-170 (1986)
• [Publications] 甲斐鎌三,鈴木謙爾: 薄膜第131委員会第134回研究会資料(日本学術振興会). 1-6 (1986)