1986 Fiscal Year Annual Research Report
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61840001
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| Research Institution | Tohoku University |
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Principal Investigator |
今井 捷三 東北大, 電気通信研究所, 助教授 (60006244)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
武内 義尚 東北大学, 電気通信研究所, 教授 (60006210)
御子柴 宣夫 東北大学, 電気通信研究所, 教授 (70006279)
森田 清三 東北大学, 電気通信研究所, 助手 (50091757)
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| Keywords | 磁性バリア / 超伝導トンネル接合 / 準粒子ミキサー / サブミリ波 |
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| Research Abstract |
本研究の目的は、ジョセフソン電流がそれ自身で消滅している、磁性バリアを持つ超伝導トンネル接合を製作し、これを用いた超低雑音な準粒子ミキサーを開発することである。特に機械的に丈夫で臨界温度Tcの高いニオブ(Nb)を電極超伝導体とすることが特徴で、具体的にはNb-AlOx/NiOx/AlOx-Nbの三層構造の磁性バリアを持つトンネル接合を製作する。本年度は以下のことを行った。
1.準粒子ミキサーのシミュレーションによる到達性能と最適動作条件の解明。これにより、我々がこれまで製作してきたスズ(Sn)を電極とする磁性バリア・トンネル接合と同程度の接合品質(I-V特性)を持つNb-AlOx/NiOx/AlOx-Nbトンネル接合を製作すれば、900GHzで約100Kという量子論的極限のレシーバ雑音温度の達成が可能なことなどを明らかにした。
2.Nb薄膜の成膜には、本研究の主要設備々品である三極スパッタ装置を用いて行う。しかし同装置の納入が予定より大巾に遅れたため、現在はNb,Ni,Alのスパッタの確認を終え、Nbの成膜条件(スパッタ・ガス圧,成膜速度,薄膜品質,特に臨界温度Tc)の研究に入っている段階である。
3.従って今後、本研究の第1段階であるNbOx-Ni-AlOx-AlOx-Nbトンネル接合の製作に早急にとりかかる予定である。
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