1986 Fiscal Year Annual Research Report
合金組成比を任意に制御出来る低温・高速スパッタ装置の開発研究
Project/Area Number |
61850050
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Research Institution | Kanazawa University |
Principal Investigator |
畑 朋延 金沢大, 工学部, 教授 (50019767)
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
和佐 清孝 松下電器産業, 中央研究所, 主幹研究員
長谷川 誠一 金沢大学, 工学部, 教授 (10019755)
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Keywords | マグネトロンスパッタ / プラズマ発光分光分析 / シリサイド / 人工格子 / スパッタリング |
Research Abstract |
磁界圧着形マグネトロンスパッタ法の圧着磁界およびターゲット裏面のマグネトロン磁界をパルス変調して合金の組成比制御が可能なプラズマ制御型マグネトロンスパッタ法を開発し基礎的な実験を行った。シリコン上にTaをまたはTiのリング状ターゲットを置き、集積回路用ゲート電極を目指して組成比制御の実験を行った。その結果、圧着磁界Bcが108ガウス、マグネトロン磁界が630ガウスではTaが多く飛び導電率aが4×【10^3】〔S【cm^(-1)】〕と高く、Boが230ガウス、Bmが450ガウスでは殆どSiだけしか飛ばずaは6×【10^(-3)】〔S【cm^(-1)】〕と低かった。磁界の変化だけでaが7桁も変化し、組成をXMAで測定した結果、Ta/Siの比は1〜0まで広範囲に制御出来ていることがわかった。次にこの制御性の良さを利用して、研究調書には記載しなかった人工格子構造の製作をこころみた。周期が70【A!゜】で100層、周期が130【A!゜】で50層、周期が300【A!゜】で50層積層にした3種類の試料を作った。周期が70および130【A!゜】の試料では、低角度のX線回析で鋭いピークが観測され、その半値幅は各々0.1゜と0.07゜と良好なものであった。次にオージェ電子分光で調べた結果、70【A!゜】周期の試料では際立った周期性は得られなかったが、130および300【A!゜】の試料では正弦波形ではあるが良好な周期性が得られた。次に、70【A!゜】周期の試料が定かな周期性を示さなかった点について、プラズマ発光分光析からターゲットの相互汚染が原因と分かった。これを改善するには、発光をモニターしながら制御すれば良いことを明らかにした。 いま、基板を液体窒素温度で堆積すれば、鋭い井戸構造の膜が出来る筈で実験を急いでいる。
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Research Products
(1 results)