1989 Fiscal Year Annual Research Report
固体表面における炭化水素ラジカルの発生とその反応性に関する研究
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63470003
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
大西 孝治 東京工業大学, 資源化学研究所, 教授 (70011492)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
堂免 一成 東京工業大学, 資源化学研究所, 助手 (10155624)
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| Keywords | 典型元素 / 表面 / ジョ-ドメタン / アルミニウム / 単結晶 / 赤外分光法 / エッチング / アルミニウムハイドライド |
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| Research Abstract |
従来遷移金属表面の科学は詳しく検討されているが典型元素の表面科学は、この重要性にもかかわらず未だ不明の点が多い。本研究では、清浄なアルミニウム単結晶表面上にCH_2I_2を導入した結果有機アルミニウム金属が生成して気相に脱離する事を既に見出しているので、この系について更に詳しく検討する事を本年度の主な目的とした。まずアルミニウム単結晶上でCH_2I_2が生成する過程を詳しく検討する為の超高真空装置を製作完成させた。この装置は、到達真空度が1.7×10^<-10>torrであった。また、単結晶表面の清浄さ及び構造を調べる為のLEED-AESを備えている。本装置の最大の特徴は、反応中の表面を直接モニタ-する為の二重偏調高感度反射吸収赤外分光法が適用できる事である。赤外光は60mmΦの塩化ナトリウム窓から導入され、InSb及びMCTの両方の機能を備えた半導体検出器に導かれる。これにより、単結晶表面の吸着種を感度良く測定できる。現在までに、この方法によって酸化物の残ったアルミニウム表面に吸着したCH_2I_2のスペクトルをSN比良く測定した。次年度は、本装置によって金属アルミニウム上での反応を直接測定する予定である。更にこれと並行して行なった実験で、金属アルミ上の水素に関して興味ある知見が得られた。つまり従来は、アルミニウム金属上の水素は約100℃で脱離すると考えられていたが、我々の研究によった脱離をするのは分子状水素ではなく、アルミニウムハイドライドである事が明らかとなった。この事は、従来の常識と大きく異なるだけでなく、アルミニウム表面のエッチングも可能な事から、今後詳しく検討する予定である。
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Research Products
(1 results)
